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电镀定义:电镀为电解镀金属法的简称。电镀是将镀件(制品),浸于含有欲镀上金属离子的药水中并接通阴极,药水的另一端放置适当阳极(可溶性或不可溶性),通以直流电后,镀件的表面即析出一层金属薄膜的方法。2 H3 C* A' N% r: Q' z$ R9 |! i
电镀的基本五要素:
" i- \! z0 F6 j5 E/ O7 C1.阴极:被镀物,指各种接插件端子。( Q8 `% @' ^4 [; |3 a; q1 a1 x
2.阳极:若是可溶性阳极,则为欲镀金属。若是不可溶性阳极,大部分为贵金属(白金,氧化铱).
. a! A1 A6 f) B$ Q. ]3.电镀药水:含有欲镀金属离子的电镀药水。
" @0 n, N" l; ?7 s9 N9 p4.电镀槽:可承受,储存电镀药水的槽体,一般考虑强度,耐蚀,耐温等因素。
, P. Q0 E8 O# s5.整流器:提供直流电源的设备。
J& [! b T, G5 Y 电镀目的:电镀除了要求美观外,依各种电镀需求而有不同的目的。
& ~9 t' i5 g, o1.镀铜:打底用,增进电镀层附着能力,及抗蚀能力。# a1 ?6 i u, G+ M0 Y, s, b
2.镀镍:打底用,增进抗蚀能力。+ V6 }1 V8 @! a9 U
3.镀金:改善导电接触阻抗,增进信号传输。
5 a3 K; `% X" q7 @3 X' j4.镀钯镍:改善导电接触阻抗,增进信号传输,耐磨性比金佳。
2 G4 t+ _1 H+ l: x8 ]3 @5.镀锡铅:增进焊接能力,快被其他替物取代。+ F# @8 Q9 Q5 X$ F( I' D
电镀流程:一般铜合金底材如下(未含水洗工程)8 ^" h, v4 W# P% X6 B' e6 Q2 w
1.脱脂:通常同时使用碱性预备脱脂及电解脱脂。
1 J _- o; W; O2 s, m- y2.活化:使用稀硫酸或相关的混合酸。
& w( ]5 m( q% g+ w( z3 ^3.镀镍:使用硫酸镍系及氨基磺酸镍系。$ Y" _6 Y* ^0 \4 C* i/ z" D0 _
4.镀钯镍:目前皆为氨系。/ \) N7 G& R; Y7 h+ ?
5.镀金:有金钴,金镍,金铁,一般使用金钴系最多。+ o/ y$ ?) `8 K9 J4 K1 C
6.镀锡铅:烷基磺酸系。
( T; S% X6 b0 J' i7.干燥:使用热风循环烘干。, u& J0 ~3 N& J8 k
8.封孔处理:有使用水溶型及溶剂型两种。
3 w( @& m4 F$ t3 g电镀药水组成;
" l# ?! [7 H) ~+ R4 R1.纯水:总不纯物至少要低于5ppm。
8 I$ _' q' Y! N% A* V# u2.金属盐:提供欲镀金属离子。4 w* d$ e& E5 d) S8 v
3.阳极解离助剂:增进及平衡阳极解离速率。
1 U5 p* W l7 D$ S4.导电盐:增进药水导电度。4 x0 t5 K1 k6 o
5.添加剂:缓冲剂,光泽剂,平滑剂,柔软剂,湿润剂,抑制剂。6 M; Q1 f: z# u' D2 g' f! Q3 F
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电镀条件:
/ [3 v& v; H3 G0 u1.电流密度:单位电镀面积下所承受的电流,通常电流密度越高膜厚越厚,但是过高时镀层会烧焦粗燥。; z. {, h5 u4 z. `% p6 r
2.电镀位置:镀件在药水中位置,与阳极相对位置,会影响膜厚分布。" {# C n7 A! `6 t) ~" z) z8 n
3.搅拌状况:搅拌效果越好,电镀效率越高,有空气,水流,阴极摆动等搅拌方式。% z7 d8 j7 J% W
4.电流波形:通常滤波度越好,镀层组织越均一。
% K; T( d- {3 [6 W/ q2 w# _5.镀液温度:镀金约50~60,镀镍约50~60,镀锡铅约18~22,镀钯镍约45~55。3 Z# i6 D, l0 j
6镀液PH值:镀金约4.0~4.8 ,镀镍约3.8~4.4,镀钯镍约8.0~8.5,
+ q, A' Y# o$ b3 h0 r8 b, V0 E7.镀液比重:基本上比重低,药水导电差,电镀效率差。
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$ D( J+ m5 J8 k! c% L6 J电镀厚度:在现在电子连接器端子的电镀厚度的表示法有a .µ``.微英寸,b. µm,微米, 1 µm约等于40µ``.0 t- r8 S1 Y! Y3 X1 n' f
1.Tin—Lead Alloy Plating :锡铅合金电镀
/ |* }, @& `1 j) Z0 d- q作为焊接用途,一般膜厚在100~150µ``最多.( g& y: R- w) B* W( g- G% E
2.Nickel Plating 镍电镀
7 D1 |0 `" a/ ?7 d, Q; c' A! R现在电子连接器皆以打底(underplating),故在50µ``以上为一般规格,较低的规格为30µ``,(可能考虑到折弯或者成本)" U# f1 p N+ c5 Q. j; p# X; n( X
3.Gold Plating 金电镀
* I5 @$ r9 S+ T. D6 B1 ^为昂贵的电镀加工,故一般电子业在选用规格时,考虑到其实用环境、使用对象,制造成本,若需通过一般强腐蚀实验必须在50µ``以上 .
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镀层检验:; z& [2 }; t: V; [/ x9 z1 z+ r% O
1.外观检验:目视法,放大镜(4~10倍)
/ O3 o7 v4 p7 g2 ^9 d2 ^, f: B2.膜厚测试:X-RAY荧光膜厚仪., @/ c# |" Q$ E& B8 t
3.密着实验:折弯法,胶带法或两者并用.2 j6 i: K1 c$ ^4 \2 }- e1 s5 m
4.焊锡实验:沾锡法,一般95%以上沾锡面积均匀平滑即可.
/ y, s7 ^( |( ^- S7 j5.水蒸气老化实验:测试是否变色或腐蚀斑点,及后续的可焊性.
6 }9 p7 \+ A, A- k6.抗变色实验:使用烤箱烘烤法,是否变色或者脱皮.$ p; X% Z4 v- @$ M1 X
7.耐腐蚀实验:盐水喷雾实验,硝酸实验,二氧化硫实验,硫化氢实验等.5 c. J; t1 _3 c* h. q. Y
摘自:http://jxwy2008.5d6d.com/thread-1494-1-1.html
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[ 本帖最后由 xiaobai999 于 2009-5-14 13:55 编辑 ] |
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