真空溅射镀膜的相关概念

liyuyin007

真空溅射镀膜的相关概念

3 a8 A/ {' V' m4 s' G + R/ D" d# V2 g' C3 f  M在真空中，被加速的离子碰撞固体时，一方面使晶体受到损伤，另一方面与构成晶体的原子相互碰撞，最后使固体表面的原子或分子向外部溅射，溅射物质镀到基片上形成薄膜，称为真空溅射镀膜。溅射方式很多，其中应用最早的是二极溅射，根据阴极靶子不同，分为直流(DC)和高频(RF)两种。用一个离子打击靶表面所溅射出来的原子数称为溅射率。溅射率大，膜层生成速度就快。溅射率与离子的能量、种类、以及靶材料的种类有关。一般地说，溅射率随人射离子能量的增大而增大，贵重金属溅射率较高。表2表示几种靶材料和几种离子对于500电子伏离子能量的溅射率。 4 p' X6 T" z7 U3 z& ]1 K 表1 对于500电子伏离子能量的溅射率 7 _; C$ i1 e9 D6 e9 K) ihttp://bbs.chvacuum.com/images/default/attachimg.gif http://bbs.chvacuum.com/attachments/month_0904/09042410588d031215d5b8f901.gif 下载 (15.77 KB) , b/ _# M" G. L3 G7 天前 10:58 . _4 x: L  ?1 t# {" W: w* u5 ?

laoniu16

真空技术论坛 提示信息
. }0 I8 H' c/ [# e* i! S% K% T; p' z
" k! C4 @/ @( h9 s  z1 o您无权进行当前操作，这可能因以下原因之一造成
' [4 c+ s+ Q$ ]2 Q: A/ I* |0 ?9 c
对不起，只有特定用户可以下载本论坛的附件，请返回。