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圆柱形平面式磁控溅射靶的特点与设计原理
+ f" @; t+ w) j c" p1 s4 J4 Y% M. }孙东明(昆明理工大学机电工程学院,云南昆明 650093
1 K) @7 u/ |9 r) T/ o" K" L摘要:介绍了一种根据矩形平面靶的结构原理设计圆柱形、平面式磁控溅射靶的方法. 并对如何
, r& |, k* k: b4 m' F, O# X发挥圆柱形、平面式磁控溅射靶的优点进行了分析.4 O2 P% [0 o3 u6 c
关键词:磁控溅射;靶;真空镀膜( x9 A9 _3 n& k+ q0 L# A
中图分类号:TB79 文章编号:1007-855X(2000)02-054-04 |
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