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蓝宝石衬底的化学机械抛光技术的研究# d2 m" z" R$ V* I. k. K
王银珍,周圣明,徐 军5 o/ D! W: G6 f4 t7 w" j) J
(中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800) E. D3 f) L; ?2 U* e8 \
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【摘要】介绍了蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺,概述了化学机械抛光原理和设备,讨论分析了影响蓝宝石衬底化学机械抛光的因素,阐述了CMP 的主要发展趋势:能定量确定最佳CMP 工艺,系统地研究CMP 工艺过程参数,建立完善的CMP 理论模型,满足不同的工艺要求和应用领域,有效降低成本,提高产量。
, O' T5 a H. W2 a0 l% s& [【关键词】蓝宝石;衬底;化学机械抛光' B0 g( y6 G) F. v, p8 R
【来源】《人工晶体学报》2004 年6 月 |
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发表于 2008-1-17 19:39:18
