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白光干涉仪是以白光干涉技术为原理,能够以优于纳米级的分辨率,非接触测量样品表面形貌的光学测量仪器,用于表面形貌纹理,微观结构分析,用于测试各类表面并自动聚焦测量工件获取2D,3D表面粗糙度、轮廓等一百余项参数,广泛应用于光学,半导体,材料,精密机械等等领域。' _2 t1 h8 V# U& a6 B- d7 l* g
9 F& d2 j# [, D如我国的半导体产业技术特别是芯片的研发和制造方面,与国外的高端制造还有很大的差距。目前我们能够成熟掌握的技术虽然可以做到大批量产28nm工艺的芯片;小批量生产14nm工艺芯片,但良率不高。
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其中在芯片封装测试流程中,晶圆减薄和晶圆切割工艺需要测量晶圆膜厚、粗糙度、平整度(翘曲),晶圆切割槽深、槽宽、崩边形貌等参数。
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" t* I, I. O3 Z0 f1 U. sSuperViewW1白光干涉仪的X/Y方向标准行程为140*100mm,满足减薄后晶圆表面大范围多区域的粗糙度自动化检测、镭射槽深宽尺寸、镀膜台阶高等微纳米级别精度的测量。而型号为SuperViewW1-Pro 的白光干涉仪相比 W1增大了测量范围,可完全覆盖8英寸及以下晶圆,定制版真空吸附盘,稳定固定Wafer;气浮隔振+壳体分离式设计,隔离地面震动与噪声干扰。) S' p0 H! l8 \1 ^% o' l" H
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