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[新技术] TiB2—金属陶瓷及其涂层制备技术的研究进展

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发表于 2016-6-23 14:26:29 | 显示全部楼层 |阅读模式 来自: 中国黑龙江哈尔滨

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TiB2一金属陶瓷及其涂层制备技术的研究进展
; T! w( F: U7 B/ j王晓峰,王惜宝* n  s. |6 n! B% f+ D
(天津大学材料学院表面工程中心,天津300072)
8 G/ [' G. L5 f[摘要] 评述了近年来对TiB2一金属陶瓷及其原位合成技术的研究进展。从其烧结工艺、显微结构及其在涂层中的原位合成制备技术等方面进行了分析和讨论。指出了目前限制TiB2一金属陶瓷广泛应用的主要问题:原料价格昂贵、烧结工艺复杂、难以致密化,同时,涂层的力学性能有待进一步提高,并提出了解决上述问题的可行途径。
2 Y' ^! l1 v" C【关键词] 粉末 台金;rriB2一金属陶瓷;原位合成;涂层
6 o8 t1 p) z3 Y  {  A3 q1 @6 e8 {3 ^[中图分类号】TFI23.3 [文献标识码】A [文章编号】1(301—1560(2002)12—0005一O35 e8 c6 b" b8 z- U* I) @; M. k
- Q0 X3 T0 |3 J2 P3 o

TiB2—金属陶瓷及其涂层制备技术的研究进展.pdf

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