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[新技术] 用CVD法在陶瓷颗粒表面获得TiN涂层与应用

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发表于 2016-6-1 14:07:39 | 显示全部楼层 |阅读模式 来自: 中国黑龙江哈尔滨

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用CVD法在陶瓷颗粒表面获得TiN涂层与应用9 o) t+ G: b4 o& v/ b
王恩泽郑燕青邢建东鲍崇高
! N. h9 T  t1 U( l(西安交通大学机械工程学院.西安710049)2 H- ^- H6 f8 h# `& n" r+ j
摘要研制了适合陶瓷颗粒表而涂层处理的化学气相沉积装置,并探索了在氧化铝颗粒表而获得T iN涂层的工艺;所获得的T iN涂层能提高耐热钢在氧化铝颗粒间的铸渗深度,并使颗粒得到基体的牢固支撑氧化铝颗粒体积分数在23% ^ 57%可调, X# c* w- @4 S& f9 f
关键词化学气相沉积,T iN涂层,氧化铝颗粒,耐热钢基体,复合材料
% T3 H: s: B1 l6 R3 h中图分类号TB331, TQ174.758* i: F8 `+ p- h, B: D+ m& S% k. t( F
( m) I! T, H% m" X8 G% \" \

用CVD法在陶瓷颗粒表面获得TiN涂层与应用.rar

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