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发表于 2013-11-27 13:25:47
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来自： 中国黑龙江哈尔滨
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基于双线空问像线宽不对称度的彗差测量技术' f7 Z! W( \5 x g
王帆1’2 王向朝1 马明英1’2 张冬青1’2施伟杰1’2
; |+ d' f+ t) ]( i; Y／1中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室，5 n$ P8 {3 g' [8 C9 k
＼2中国科学院研究生院，北京100039
& U! B. J" l, o& d8 }+ ^摘要：在高数值孑L径、低工艺因子的光刻技术中，投影物镜彗差对光刻质量的影响变得越来越突出，因而需要一种快速、高精度的彗差原位测量技术。为此提出了一种新的基于双线空间像线宽不对称度的彗差测量技术，利用国际上公认的半导体行业光刻仿真软件PROLITH对该方法的测量精度进行了仿真分析。结果表明，与基于硅片曝光的彗差测量方法相比，基于空间像的彗差测量技术速度上的优势十分明显。其测量精度优于1．4 nm，较国际前沿的多照明设置空间像测量技术(TAMIS)提高30％以上，测量速度提高1／3左右。在ASML公司的PAS5500型步进扫描投影光刻机上，多次测量了投影物镜彗差，结果表明，该技术测量重复精度优于1．2 am，能实现高精度的彗差原位测量。4 K/ d1 B, f& r) f8 r- B
关键词： 光学测量；光刻；像差；投影物镜；成像质量；泽尼克系数0 w$ w% e7 ^$ A6 V: b6 X6 C! J, n; p
中图分类号：TN305．7 文献标识码：A 文章编号：0253—2239(2006)05—0673—6+ l6 @/ Y5 P4 _. a: ]; x
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