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无机材料学报
" T! Z. v( d5 r; A第24卷第6期2009年11月 y1 A0 j+ L# C+ J2 J
齐涛,郭喜平
, @- Q9 R0 [* r(西北工业大学凝固技术国家重点实验室,西安710072)
% X8 f U* V/ M- z) y摘要:采用Si.Y:O,包埋共渗工艺在铌硅化物基超高温合金表面制备Y改性的硅化物涂层,研究其在1250'12的恒温氧化性能.采用扫描电镜(SEM)、能谱(EDS)与x射线衍射(XRD)分析Si—Y:0,共渗涂层氧化前后的物相组成和组织变化.结果表明:涂层具有明显分层的结构,由外至内依次为(Nb,X)Si:(X表示Ti,Hf和Cr)外层和(Nb,x),si,过渡层,在过渡层与基体之间有不连续分布的细小(cr,AI):(Nb,Ti)块状沉淀.EDS分析表明。涂层中的Y分布是不均匀的,(Cr,Ai)2(Nb,Ti)相的Y含量为0.94at%左右,而(Nb,X)Si2和(Nb,X)5Si3相的Y含量为0.46at%~0.57at%.经12500C分别氧化5,10,20,50和100h后,si-Y203共渗涂层保持其原始的相组成,并在其表面形成以Ti02、Si02和Cr20,组成的致密混合氧化膜,且与基体结合良好.7 A. g, [4 c1 {, G9 K3 x6 ]
关键词:铌硅化物基超高温合金;Si.Y:O,共渗涂层;涂层结构;高温抗氧化性能
& }6 I0 U$ c1 V/ e中图分类号:TBl74 文献标识码:A |
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