Cl- 、 SO42- 的腐蚀性？

yedx_830

一罐内介质成份如下： H2O； NH3-N 2500-7500mg/L； SS 600mg/L； Cl- 5000mg/L； SO42- 5000mg/L； Na+ 6000mg/L； 氧化铝 500mg/L； 氧化硅 200mg/L。 介质温度 25℃。PH 值 6-9。
请问：
7 U1 ?: B6 v; m# O5 n# G1 P1 R 溶液中氯离子、硫酸根离子的腐蚀机理与溶液中有同等含量的盐酸、硫酸腐蚀机理有无差异？差异在哪？
溶液中氯离子、硫酸根离子的腐蚀性与溶液中有同等含量的盐酸、硫酸腐蚀性有无差异？若有差异，如何进行定量或定性的分析？
4 H( Y/ f! m- X1 A; ~* z4 o- I1 g根据溶液中氯离子、硫酸根离子的不同含量，罐内相关设施又如何选材？如 Cl- 3000mg/L； SO42- 3000mg/L；又如 Cl- 2000mg/L； SO42- 2000mg/L；
; I1 u; G3 J8 z请高手指点。

大家

好像硫酸根没什么特别的，说到酸腐蚀应该是H离子的作用而不是酸根。氯离子大量存在肯定不能用不锈钢了吧

shiow

1.您說的氯離子、硫酸根離子與同等含量的鹽酸、硫酸腐蝕機理沒有差異，因為鹽酸及硫酸在水溶液中呈現的是離子狀態，所以既然同等含量（相同莫耳數）的話就沒有差別。
$ O, x2 ^; w2 Q, u  Z/ ]! p2.一般氯離子跟硫酸根離子都是陰離子，如果您要定量分析的話，建議可以使用IC（離子層析儀）作檢測分析。
3.如設備填充的內容物是氯離子及硫酸根離子的話，建議可使用超合金材質，不過費用應該也很高吧...

yedx_830

我也倾向于3楼的分析。但对于Cl- 5000mg/L， SO42- 5000mg/L，其浓度应相当于0.5％吧？HCl在此浓度下的腐蚀应该是很厉害的。但现客户提供介质的PH值只有6～9，介质的腐蚀性会与盐酸相当吗？
2楼说酸腐蚀应该是H离子的作用而不是酸根，不知有何出处?
罐体是衬胶的，但罐内设施不想衬胶。还盼大家继续指教......