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1、整体热处理 bulk heat treatment% G% ~5 q0 c' t% t* q- P/ R
2、表面热处理 surface heat treatment
0 A! c' y5 }1 {- a3、化学热处理 thermo-chemical treatment
" `; Z1 ~. H9 v( }0 R9 r$ i8 r4、预备热处理 conditioning heat treatment
! y' C8 p9 Q: v. ~5、局部热处理 local heat treatment- ^5 r2 c$ j0 n, V! H: ^; x
6、可控气氛热处理 heat treatment in-controlled atmosphere
) n! s' e: g y% y+ x7、真空热处理 vacuum heat treatment
* [6 Q: z2 e( D6 A1 T8、离子热处理 ion heat treatment2 |& ]4 q" R, a
9、高能束热处理 high energy density heat treatment: {" F0 r" O5 h% ]( n$ I8 \
10、形变热处理 thermomechanical treatment! R+ L3 U& \- y5 k# X
11、复合热处理 complex heat treatment
N2 n; @& N8 z/ a' F0 {; a/ B12、流态床热处理 heat treatment in fluidized beds
4 {& n* c9 t/ Y$ @) V13、吸热式气氛 endothermic atmosphere
9 u( L. a5 p z7 y. [. B14、放热式气氛 exothermic atmosphere' p1 q/ L: s9 B+ O1 t( h, z; O) G" `% e
15、放热-吸热式气氛 exo-endothermic atmosphere
! O4 [0 [; h2 R( i+ }0 v16、滴注式气氛 drip feed atmosphere5 v4 w4 X0 e9 n8 S& s4 k2 Z
17、氮基气氛 nitrogen-base atmosphere' \( F& W5 q' E4 n
18、合成气氛 artificial atmosphere
3 O* T" M0 ]/ H+ G( ^19、直生式气氛 direct prepared atmosphere
8 D9 a J# \5 o) w9 o. H/ a2 H20、淬火冷却介质 quenching media
# Z* U* a& Q% B% u0 \( i21、淬火冷却烈度 quenching severity
7 a5 T' R! h) z22、淬透性 hardenability
. Z; G& @% z% j( ] a23、淬硬性 hardening capacity
7 Q. {5 t" G1 R( C6 L" u T9 z24、端淬试验 Jominy test+ ]; c, x3 o6 B4 i; W/ D' M
25、奥氏体化 austenitizing
5 V$ G" g5 D. q% |9 L5 W26、等温转变 isothermal transformation
& W2 t' X5 r* V9 p8 Y' X3 X27、连续冷却转变 continuous cooling transformation$ p: M2 H! ^) ^6 _4 U
28、退火 annealing: S) L- T6 @" E
29、完全退火 full annealing6 `7 i. b, f% _6 |7 A$ e% C
30、不完全退火 incomplete annealing; j$ G. a/ ~8 t8 ^0 p$ X
31、去应力退火 stress relieving annealing
1 V) p* D+ s5 l9 _4 t32、球化退火 spheroidizing
# F; J2 O& `; g7 ~& \33、正火 normalizing
4 {% T/ h- Y; X% {: B2 N34、等温正火 isothermal normalizing 3 Z: y" `' u5 `# s* r, {. j
35、淬火 quenching harding
' c, Q. g4 F; T# r2 f36、等温淬火 austempering
; N( r( d/ h# F% }7 N1 X" ^37、分级淬火 martempering
; i: u$ ^9 r& l38、亚温淬火 intercritical hardening
2 C [. R, A. A' }2 z39、冷处理 subzero treatment
7 i$ v6 S& D: O! z, X40、深冷处理 cryogenic treatment2 K& e0 T0 a; `" |# F
41、马氏体临界冷却速度 critical colding rate " ?0 ^1 D5 b( k* W4 H& U- D
42、有效淬硬深度 effective hardening depth
. t; k3 A5 l: A43、回火 tempering% Q2 e' \6 `/ p3 C# Y
44、低温回火 low temperature tempering9 i1 T# u u* Z7 ?" w
45、高温回火 high temperature tempering
7 f4 V: u( {6 }$ l46、自回火 self tempering) J/ ?0 C; P% G! Q& \
47、回火脆性 temper brittlement* X. b/ p8 v* \- @
48、淬冷畸变 quenching distortion
) h! [5 G2 ]' [49、氢脆 hydrogen embrittlement$ Y$ l& m8 y; j. v: @) i: G/ @( Q
50、残留应力 residual stresses
: y a0 @5 g- F6 R8 t51、热应力 thermal stresses
2 N1 ]5 i9 ?1 f& H$ Q52、相变应力 transformation stresses$ \ Q( _5 J. p
53、固溶处理 solution treatment
) I6 m C; \' g% g7 ?+ y' b% Y; F54、时效 ageing
: H+ [, F( w1 `. D55、沉淀硬化 precipitation hardening8 G1 h; k! i7 ^
56、氧化 oxidation 9 T7 Z `( g$ _$ W
57、脱碳 decarburizing# D7 B# e" r: d" ?% }% n( r
58、内氧化 internal oxidation
t! \/ e k; P+ ]' V6 t59、渗碳 carburizing- c+ f! ?5 _# V* Z! C
60、固体渗碳 pack carburizing
' n$ M, [% _- D* s! g61、气体渗碳 gas caiburizing
5 t7 i& Q& ^% \# u* n( y0 ]62、液体渗碳 liquid carburizing4 @7 y# i$ q* \" x3 O1 e
63、真空渗碳 vacuum carburizing
' X! `3 _% v" V$ K64、离子渗碳 plasma carburizing
! n, ]* H+ f: J/ S4 O65、复碳 carbon restoration5 c# e* r7 f. ~1 b
66、碳势 carbon potential
: s' H5 |3 g7 H" l7 j0 V* v* l67、露点 dew point' e7 X: S: N- i2 p/ D
68、强渗期 carburizing period5 U$ m8 V7 `! r& \, ?
69、扩散期 diffusion period% K% P; S# g" o* A, f. |6 h
70、载气 carrier gas6 N! a3 M0 X; n8 `# N8 b
71、富化气 enrich gas2 @1 K% _; I- S/ J' I$ k- c! t
72、渗氮 nitriding- s$ O* ~, D$ F" r5 z
73、液体渗氮 liquid nitriding
) d! M% i( X) ^" d7 D74、气体渗氮 gas nitriding
4 [1 o8 K8 X$ ^5 F! ]# m% s) d75、离子渗氮 ion nitriding
2 s3 P0 m3 y5 F# p6 ~76、退氮 denitriding( D! H0 K2 h1 P `# b4 `2 M4 Y
77、渗氮化合物层 compound layer7 I5 ^8 }" X/ Y- B1 `7 M/ D2 V z
78、氨分解率 ammonia dissociation rate( {$ d6 ?' w. [
79、渗金属 metal cementation
8 L3 z" }, W2 [" B! h6 r80、多元共渗 multicomponent cementation% L4 ^! ~# `& j- L& u4 n# g* Q
81、碳氮共渗 carbonitriding
2 y1 l3 D0 G3 |- d82、氮碳共渗 nitrocarburizing0 P$ z1 b2 a! w b( K6 U
83、流氮共渗 sulpho-nitriding
$ G: _* H/ C9 c' ~/ E+ r1 i' x; ~# |/ V84、氧氮共渗 oxynitriding
3 j& ]; z( Z* [2 ]3 m' j2 \85、化学气象沉淀 chemical vapor deposition! i; J4 ?9 f) M& p [/ c7 r
86、物理气相沉淀 physical vapor deposition
9 N r& r$ ?0 r, B! H87、相 phase
& J( o! Q$ d8 H/ i6 f$ S% V88、组织 structure, W y8 R0 Y9 I
89、晶粒 grain
0 v( U h: }9 g) q+ L5 e- b% R8 B90、晶界 grain boundary: P8 b6 z# u) E D
91、晶粒度 grain size % g! h! d0 v* [# u& v: H4 ~2 u
92、晶粒度等级 grain size number4 Y' O. m4 s( p2 `$ z
93、共晶组织 eutectic-structure
& n5 Q$ `/ h! \: @% W94、共析组织 eutectoid structure
* O/ s' a' F% v% D95、层片状组织 lamellar-structure) h" v M! C! `5 @5 @4 f
96、弥散相 dispersed phase
5 F* O# H a/ ~0 X97、亚组织 substructure
1 W: B: T0 a9 P, l; E* b5 \: }98、位错 dislocation
9 y$ r+ t8 P# J# d99、结构 texture |
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