国际多晶硅生产工艺介绍

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多晶硅是单质硅的一种形态。熔融的单质硅在过冷条件下凝固时，硅原子以金刚石晶格形态排列成许多晶核，如这些晶核长成晶面取向不同的晶粒，则这些晶粒结合起来，就结晶成多晶硅。多晶硅可作拉制单晶硅的原料，多晶硅与单晶硅的差异主要表现在物理性质方面。例如，在力学性质、光学性质和热学性质的各向异性方面，远不如单晶硅明显；在电学性质方面，多晶硅晶体的导电性也远不如单晶硅显著，甚至于几乎没有导电性。在化学活性方面，两者的差异极小。多晶硅和单晶硅可从外观上加以区别，但真正的鉴别须通过分析测定晶体的晶面方向、导电类型和电阻率等。
   目前国际上多晶硅生产主要的传统工艺有：改良西门子法、硅烷法和流化床法。新一代低成本多晶硅工艺技术研究空前活跃。除了传统工艺（电子级和太阳能级兼容）及技术升级外，还涌现出了几种专门生产太阳能级多晶硅的新工艺技术，主要有：改良西门子法的低价格工艺；冶金法从金属硅中提取高纯度硅；高纯度SiO2直接制取；熔融析出法（VLD：Vaper to liquid deposition）；还原或热分解工艺；无氯工艺技术，Al－Si溶体低温制备太阳能级硅；熔盐电解法等。

; K9 _, V3 F( j! B! O/ a9 R多晶硅生产工艺：
, e& I5 @0 `+ j, Q$ A$ d1 杜邦法（四氯化硅＋锌）
2 贝尔法（四氯化硅＋氢气）
3 西门子法（三氯氢硅＋氢气）
+ k% X1 t/ k0 o) f- a4 ]6 o5 n4 U.C.C法 硅烷法（硅烷分解）
5 其他

  西门子法：       氯化SI+HCL---SIHCL3+SICL4
                          还原SIHCL3+H2---SI+HCL
7 Q! f! u1 v; e                          氢化SICL4+H2---SIHCL3+HCL