离子辅助镀膜技术在优质高产的镀膜系统中的应用

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离子辅助镀膜技术在优质高产的镀膜系统中的应用是德国莱宝真空新型的镀膜技术。
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1 O" V) N! h& \4 v1 s$ X离子辅助镀膜技术在优质高产的镀膜系统中的应用
                            哈洛 哈哥顿*
莱宝光学有限公司, 西门子路88号，63755 阿淄诺，德国
% H' g0 `. Z* x6 f9 p) Z摘要： 大规模生产高质量薄膜产品是今后镀膜设备需要解决的问题。等离子体或离子辅助镀膜现在被广泛应用于高质量膜系生产中并取得了良好的效果，但是主要由于等离子体或离子源的原因，产能不高。本文介绍了一种新型精密光学镀膜系统和一种新型溅射镀膜系统。新的系统能够优质高效地生产复杂膜系，特别适合大规模生产。
. O% H; s- X. S$ p关键词：等离子辅助沉积，溅射镀膜，光学镀膜
( p2 T4 Q$ G5 }( ]% ]中图分类号：0484

) U( \6 i3 E6 h" x/ `PlAD for high productivity high performance coating systems
Harro Hagedorn*
Leybold Optics GmbH, Siemensstrasse 88, 63755 Alzenau, Germany
Abstract：Mass productions together with super layer qualities are a challenge for future coating equipment. Plasma- or ion-assisted coating processes is widely used for the production of high quality interference coatings. The special coating equipment produces complex interference filters，but their limited productivity makes them unsuitable for cost-effective production. The limitations for high output are the existing sources’ restriction to evaporation rates. One kind of precision coating system and sputtering system have been developed and described in this paper. New coating system can manufacture complex coatings with high quality really economically, so especially fit for mass production of high requirement complex coatings.
' X0 j, S8 T8 @8 OKeywords:, plasma ion assisted deposition, sputtering coating, optical coatings
Dr.Harro Hagedorn, 1965出生，德国汉堡大学物理系博士。已从事薄膜工艺研究十余年，现任德国莱宝光学有限公司研发部门经理。
1. 引言
/ u$ u8 s2 L2 t/ e' ^        市场对未来镀膜设备的挑战是高品质薄膜的大规模生产。目前（等）离子辅助镀膜工艺已经广泛应用于高质量薄膜的镀制，为电信行业开发的专用镀膜设备可以胜任几乎任何复杂薄膜的生产，但产能有限，不能够以合理的成本实现批量生产。现有的（等）离子源技术的局限性已成为无法大规模提高产能的瓶颈并限制了蒸发速率的提高。因此莱宝光学公司开发了新型等离子源和相应的工艺结合光学膜厚直接监控技术实现高品质光学薄膜的批量化生产。
        等离子辅助镀膜（PIAD）通过离子轰击的方法显著地改善薄膜的品质，从而得到致密、无漂移、高折射率、强附着力、低损耗的薄膜。由于传统镀膜设备无法满足电信行业[1]高品质滤光片的镀膜要求，所以当时针对此应用开发了专用镀膜设备，在单个基片上镀制出非常出色的薄膜。其能够获得高品质的原因在于：直接对工件的光学监控，工件的高速旋转，工件的精确温度控制，（等）离子源长时间的稳定输出，以及材料蒸发的稳定性等。如何将这些设计特点借鉴到批量生产的镀膜系统中帮助提高镀膜品质呢？目前莱宝光学公司正在进行的两种针对PIAD镀膜工艺的研究结果非常乐观。
2．使用PIAD的电子蒸发技术
        氧化物突出的光学、化学和机械性能使其成为光学镀膜的首选，并往往选择SiO2作为低折射率材料。使用电子束蒸发实现SiO2快速蒸发并非难事,但是若想配合等离子辅助镀膜技...
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