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蓝宝石衬底的化学机械抛光技术的研究
W; L" N2 B) {3 Z/ { 王银珍,周圣明,徐 军+ {+ S0 K& G, ?+ U1 R! s
(中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800)2 `) Z) ]' {# g6 J' k$ x3 N! D
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【摘要】介绍了蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺,概述了化学机械抛光原理和设备,讨论分析了影响蓝宝石衬底化学机械抛光的因素,阐述了CMP 的主要发展趋势:能定量确定最佳CMP 工艺,系统地研究CMP 工艺过程参数,建立完善的CMP 理论模型,满足不同的工艺要求和应用领域,有效降低成本,提高产量。 `. B; I9 h" m# G1 N
【关键词】蓝宝石;衬底;化学机械抛光+ a# l5 D; q% D$ o* P9 g8 l
【来源】《人工晶体学报》2004 年6 月 |
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发表于 2008-1-17 19:39:18
