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发表于 2007-11-30 22:22:26
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来自： 中国江苏徐州
金相试样的磨制，须经过粗磨和细磨二道工序。; \3 a% I7 T+ d, \4 i* D. V
粗磨是将试样的待观察面用磨床，砂轮机的砂轮之侧平面或锉刀等加工成一平整的表面，然后用1 号砂布和280号砂纸进一步磨平。在粗磨过程中，特别要避免试样表面发生过热现象，并要求表面尽量平整，磨（锉）痕方向要保持一致。粗磨完毕后，应洗净试样上的粗磨残留砂粒，为细磨作好准备。
. y# b+ Y0 Y' e; w/ S# s Y" h细磨操作一般需经1、1/0、2/0、3/0 号金相砂纸逐次磨制。磨制时要求保持试样表面
/ u- B5 B& E9 e& b平整、磨痕方向一致。在每换一道砂纸之前，应先将试样表面擦净（以免使粗砂粒带到下
7 I! ^) n4 y7 @6 w8 S/ T道的细砂纸上去），并且要将试样按前道磨痕方向旋转九十度，这样可便于辨认前道粗痕* F% M3 ?. p* ~* x3 g A7 V, z# u
是否已彻底去除。用手工细磨时用力要均匀，开始时用力可大些，在将近结束时则用力小, C6 O- b8 G8 `# j/ q9 K; c! b; v
一些，这样可以缩短后道砂纸的磨制时间。目前机械细磨的方法很多，例如可利用试验室
) n9 f$ v+ `6 l5 I& c" Y0 s& @- r中现有的金相抛光机，将金相砂纸固定在抛光盘上，按上述过程进行磨制。也可用特制的6 Y7 [& w, Z5 T. ]
铅盘和腊盘在抛光机上磨制。还可以用帆布固定在抛光盘上，用专门的固体研磨膏涂在2 i/ ?2 t- v+ G) w8 F+ E, \. J
帆布上进行磨制等。应用机械细磨，可大大缩短磨制时间。对细磨后的试样也应将表面+ `! p3 j% ^( u5 p/ }0 U9 g r
洗净，以准备下一步的抛光。; O3 L; I8 y9 o
二、试样的抛光
: M; g" m3 j* _7 P) o经细磨的试样，还须进行抛光，以便将表面抛成无划痕呈镜面的金相样品。此工作一
* w. J5 v6 z: G' V! p般在抛光机上进行。事先将抛光布洗净，紧箍在抛光盘上。开动抛光机后，加上适当的抛; j# `% z% Z7 A! @* ~
光液将经细磨的试样表面平压在旋转的抛光布上进行抛光。% Z' F0 A( _# f# F8 f4 l- X3 j3 a
抛光布的材料，常采用丝绒、呢料及的确良布等。一般以短毛丝绒的抛光效果较好，
7 S* c9 ~9 d+ \7 W& j而且石墨不易剥落。也有采用尼龙作抛光布的。$ e; Y% R& d& z, H! O, t. H
抛光液也是多种多样的。应用较广泛的是经过高温焙烧过的氧化镁粉，三氧化二铬; Z, h* G# A* u) V) p- t$ D
（化学纯）粉的悬浊水液。用氧化镁悬浊水液抛光时，石墨不易被拉曳或污染，抛光质量也: |' Q: Y* y; Z
较理想，但是抛光时间比较长，一般约需半小时以上。用三氧化二铬悬浊水液抛光时，基1 J3 Z6 L4 P1 o9 x4 v
体金属的抛光是较快的，但是石墨表面较容易污染，不易迅速达到理想的效果。因此，可
. E- G% W0 K7 B9 @: w% z) t以在其中溶入极少量的铬酸酐（又称三氧化铬，在一千毫升水液中加0.2克左右）使抛光4 v8 Y5 W$ O; {3 v( v; f
液略具腐蚀性，这将有助于迅速去除磨痕及减少试样表面的污染。这种抛光液若用于手, k( Q7 W1 o: K& x6 z
持试样抛光时，在抛光刚开始时施加于试样上的压力要大些，抛光将结束前则压力应小& c2 }* l# e& ` y
些，在抛光时要不断旋转试样。一般经抛光二至三分钟后就可得到较满意的抛光面，且石墨不被拉曳和剥落，抛光速度比用氧化镁抛光液时大大提高。# K" H5 r: Y6 p( I4 l7 b
为了提高抛光效果，应当注意抛光液浓度的适中。一般在抛光初期所用的抛光液可7 Y- [" M, ?: s4 H
浓些，抛光布的湿度可保持大些；在抛光后期，则抛光液应淡些，同时抛光布也应适当干
7 ~8 J( q: o' w& h# f+ Y些。这样不但可缩短抛光时间，而且也有助于使石墨不致被污染和剥落。抛光时还应注
4 Y0 A2 I J. j' a8 Q意掌握好抛光速度。一般在抛光初期，可将试样置于抛光盘距中心远一些的位置上，这样
[: z( M" r: }# h2 B) u由于该处的线速度比中心的大，有助于抛除较粗的磨痕。在抛光后期，则应将试样移至抛
8 W! Z' R2 a) z! M6 a7 m光盘近中心的位置，以降低抛光速度，避免石墨剥落。
+ [' x" U8 K2 Y, f3 }) c. F3 b在抛光过程中，应保持试样平整，用力均匀，压力适中，抛光时间不宜延续过久（压力
0 J; p$ Z# j# g6 Y过大，抛光时间过长都容易使石墨剥落和可能产生麻点），并在抛光盘上沿径向作微小的 x; O k9 \5 \" X3 ?% `& H
移动。为了进一步提高抛光效果，还可在粗略地抛去表面的较粗磨痕后，将试样用! "
* J1 `9 [! k3 U- k5 u* r#$硝酸酒精溶液侵蚀至一定程度再进行抛光，这样反复几次，直至达到满意为止。
& w* w) E$ S; {# g. `" X球铁试样除采用手持抛光法外，也可用机械自动抛光。自动抛光机的形式很多，有旋6 _8 B1 Q2 [* m4 r
转式、磁吸式、振动式等抛光机，它们对大批生产的试样检验工作提高工效是十分显著的。; d9 w; C) ?7 i2 Q" z: c
抛光质量良好的金相试样表面应达到：平整光滑，无划痕，没有紊乱金属层和麻点，并+ _3 u' S$ {& I3 G) z+ b
且石墨球保持完整无损，不污染，不剥落也不曳尾。抛光后如果发现试样表面不平整而有& o6 o3 j9 u% |; E* A
碍显微镜观察或有石墨剥落等制样缺陷时，应根据缺陷的具体情况从粗磨或细磨开始重
1 Y+ k3 D! Q, W/ G# P7 K) {# Q8 T/ O新制备试样。若发现存在未抛净的磨痕、石墨曳尾，石墨污染或试样表面不清洁等制样缺& t) k/ F# @, R8 a
陷有碍金相检验时，应将试样继续进行抛光，直至缺陷消除为止。若发现试样表面有紊乱6 C5 {$ s& ^+ F+ D" O) U( ]- }
金属层（在以铁素体为主的基体上出现的可能性较大），可用反复侵蚀和抛光，交替进行的/ H( w! i8 t) o3 K7 v* p9 p; R1 p
方法消除之，直至获得满意的抛光面为止。; a- U' r% A G) u3 H0 n' u
对抛光后的球铁金相试样，应立即用清水冲净表面，淋以酒精，吹干。然后放在干燥- j8 \+ K7 z7 p/ Y" U
器中贮存，以免试样表面氧化锈蚀。对抛光质量良好的试样，可直接在显微镜下观察其石
T' ~8 `3 `5 Y7 z5 d/ M" L" F墨及非金属夹杂物的情况。
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