美推出软干涉光刻技术 / n3 [+ X" U6 O) G - \. ^; z" ?3 F- i) z' }0 W5 v 科技日报2007年9月14日讯 美国科学家在纳米制作技术领域获得重大进展,通过将干涉光刻和软光刻技术结合在一起,推出称为软干涉光刻技术(SIL)的新型制造技术,可以用来扩展纳米生产工艺以大批量制造等离子体超材料和器件。与现有的技术相比,软干涉光刻技术具有许多明显的优势。作为一种大规模制作纳米材料的创新和廉价方法,利用它制成的新颖的先进材料,为开发和应用特殊与突发光学特性铺平了道路。该研究项目由美国西北大学奥多姆教授领导,美国国家科学基金会资助,相关研究成果作为封面文章发表在9月份的《自然·纳米》期刊上。6 h/ K& p0 u. L5 c
2 K6 o: _. n/ c- U/ z$ s 这项研究中的光学纳米材料称为“等离子超材料”,因为其独特的物理特性源于形状和结构,而不仅仅是材料的成分。自然世界中的两个等离子超材料的例子是孔雀羽毛和蝴蝶翅膀,其鲜艳的图案是基于几百纳米水平的结构变化,导致它们吸收或反射光。' r: l% h, p9 m& z
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通过开发新的纳米制作技术,奥多姆和她的同事成功地制作出一个带有几乎无限阵列齿孔的金膜,这些小齿孔只有100纳米,比一根头发还要细500至1000 倍。在一个放大的尺寸上,这个多孔金膜看似瑞士奶酪,除齿孔外都井然有序,而且能在大尺度的距离上扩展。研究人员现在已能够脱离其它技术,以低廉的价格在大型的薄片上制作这些光学材料。3 F7 n; Z/ H8 J8 t
5 E" p, ?3 r; g# b- { 这项研究令人兴奋之处不仅在于它揭示了一种廉价的新型光刻技术,而且它能够生产具有有趣的特性的高质量光学材料。举例来说,当这些齿孔被光刻成一个微型“补丁”时,它们表现出显著不同的光传输性能。补丁会出现聚光现象,而无限阵列的齿孔则不会。9 E' ?/ O4 s4 _. H4 x. h. v5 C) f