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| 金刚石薄膜的制备与应用
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% z" v, I) b- i E* ]4 n: O著 作 者:陈光华 张阳 3 j( B) a! `9 r. a9 s% `
出 版 社:化学工业出版社
, E+ M5 g- T( {0 u$ p! S3 C4 T7 h! J书 号:ISBN:7-5025-5230-8/T3 e6 H6 @/ k5 r2 Y$ ~9 S
出版日期:2004-3-1 |
简介
7 H0 f" S' A/ a/ E q 具有优异特性的金刚石薄膜是材料界的研究热点之一，在高新科技应用领域具有重要作用。本书较全面、系统地介绍了当前国内外有关金刚石薄膜的制备方法和其在高新技术方面的应用。主要内容包括：金刚石薄膜的微观结构；力学、热学、光学、电学特性、传感器、表面声波滤波器、涂层刀具等方面的应用。本书的科学性、系统性强，概念清楚，叙述简明扼要，内容上反映了当前学科最前沿水平。本书可作为相关专业本科生及研究生的教学参考书，对于从事电子功能薄膜材料和新型刀具研制、生产和使用的专业人员具有一定的参考价值。 $ |* N" T" [% a; @: q
目录
9 `9 a+ W" u* Z9 P# a第1章 金刚石薄膜的结构、特性及研究现状
. ^7 r1 S0 k& `' `2 m7 B: N7 m1.1 金刚石薄膜的结构1 j8 v" J& K# }. u5 _! E
1.2 金刚石薄膜的优异特性
: q& y0 l( ~) I4 L! |: e4 E7 _1.3 金刚石薄膜的研究现状% O- g% S Y' R: W% ^9 I! L8 ?8 o
1.4 金刚石薄膜发展前景
) B) {6 [3 R+ r. t! [
& a. b) T" {1 W4 d/ q第2章 金刚石薄膜的合成方法
$ Y2 f* w1 L2 E- Z2.1 微波等离子体法
" `" ]2 p# k8 I* S. j; v+ p3 l2.2 等离子体喷射法0 {+ v6 d1 s7 k3 {% K. [
2.3 热丝法
6 Z) {6 J& P1 I$ y; \3 i( l2.4 其他CVD方法+ a2 m' R. e% }9 _* R+ f
$ k+ u/ z1 F9 _3 S
第3章 异质外延和高取向金刚石沉积) b" C l* P3 U. v$ J: ?6 @' L
3.1 在各种衬底上的异质外延和高取向金刚石膜
+ \6 s- w2 r/ F% _/ |3.2 在SiC和Si上的成核和生长" X8 `! d( r- @1 T8 e
3.3 选择生长和表面形貌
' x% h5 N: o; k* w: ^3 L9 x3.4 异质外延金刚石膜的电学性质
9 E R2 |$ i. K) R+ [2 F! b- d/ Z7 c) l4 `
第4章 金刚石薄膜的热学、光学和力学性质及应用8 F4 U) C6 n, y
4.1 金刚石膜的热学性质及应用' E- F/ ?$ |5 L: N M. x; Q- @5 X
4.2 金刚石膜的光学性质及应用; F7 @2 ]2 d! M5 |; B9 N& @) y
4.3 金刚石膜的力学性质及涂层刀具
* \5 q# `, _ V' D; y* T. b" n
: ?* E1 l" {$ r) z0 V% X$ C! f第5章 CVD金刚石电子器件: Z S! j% n- X* b& [2 m4 M6 E
5.1 有源金刚石膜的生长, `4 ?$ t+ e2 I- w; {
5.2 金刚石薄膜的掺杂
6 u8 J6 q9 h4 s- I6 ^9 m: k5.3 金刚石欧姆接触 s! L3 h" I) j t) ~6 N
5.4 金刚石p-n结二极管- y$ I: F: N% J/ ]5 c, m, _
5.5 肖特基二极管
% u6 n! Y6 w+ Y" ]) T" i ]5.6 晶体管
8 N: b+ y: M: `5.7 金刚石薄膜紫外光探测器
; T" C/ P, K8 I( Q( V
* e$ i4 L. G8 J: F/ y+ b第6章 CVD金刚石膜冷阴极场电子发射
" Z- j! p$ O& B- U: W" z) ?2 p% u6.1 电子亲和势和负电子亲和势% \- l; w6 R, N4 |5 _, u; ?* c5 S& T' d
6.2 场电子发射和冷阳极制备5 U }) w1 G/ T P* L, k5 f
6.3 场发射机理) O* M- `) F- S }6 A
, i/ g1 u1 }. @& V; C+ i0 E第7章 金刚石薄膜X射线窗口和光刻掩模版
9 D& n/ d: e, y2 c# U$ l7.1 用于X射线探测器的CVD金刚石窗口, r5 d& \* `9 R3 ]6 v& M
7.2 用于X射线管的CVD金刚石窗口( A5 H" O/ l) |9 R: e8 _3 B
7.3 用于X射线光刻掩模版的CVD金刚石4 |% ?$ v0 [9 T
7.4 总结与展望 ; v c6 e/ I- O
第8章 金刚石膜温度和压力传感器
4 [/ W8 u2 H/ }: l6 G- p& k8.1 金刚石传感器工艺
* r$ W5 E; L& k8.2 金刚石温度传感器
' I) O0 e$ J4 p) T6 v" s% L8.3 压阻式金刚石传感器7 k7 d. w8 w! N& H7 H' M
2 e; E5 z; H; m1 A8 [第9章 金刚石声表面波（SAW）滤波器9 }4 r& \5 ? I
9.1 SAW材料与通信/ n2 o' H; k- y1 q
9.2 金刚石膜和SAW滤波器制作技术) O1 s6 ]6 q& k" p; }, Y0 V
9.3 不同SAW结构的理论结果7 H9 f* J, s0 K4 Z7 J4 d0 k
9.4 金刚石SAW特性及其应用2 h+ ~2 h4 f! [
L: K C& _( ]; J1 v
第10章 21世纪的CVD金刚石
- k( Q- ]) I$ Z( m10.1 CVD金刚石工艺" x% }' X6 r1 E8 j5 Q5 E0 O
10.2 光学元件* u' g) d. I1 r
10.3 热沉5 ]8 a* i. }: Z
10.4 电子器件
* P1 X; i) Z' V0 }6 A& n10.5 新型金刚石膜生长技术+ [' j2 D% Z( l% u8 P! s4 Q
10.6 CVD金刚石刀具6 h% T% {( {6 i& ~, @
10.7 碳纳米管
) u+ V4 T% f: { |
" f0 \9 ^7 ?7 k: W. o; ]8 E 共3个分卷 5.23MB* s) _9 w, C2 ]% g- ?- b+ G3 j0 w
6 ?) n, F- T' ^[ 本帖最后由 zzb7240 于 2006-12-11 14:14 编辑 ] |
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发表于 2006-12-11 13:56:40
