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标题: 关于铝合金表面抛光 [打印本页]
作者: hankzyg    时间: 2006-10-27 23:32
标题: 关于铝合金表面抛光
各位大侠：
$ a' A5 X9 j: K% m* }1 z# a今日老大要求我展开打磨抛光制程，很苦恼啊，是关于铝合金打磨刀纹的，不知如何下手啊，请哪位赐教啊
作者: mongol    时间: 2006-12-23 17:18
首先要看你的工件是什么样的，是薄板件还是厚板件，工件的尺寸是多大。
: W9 J6 G6 g3 u/ L7 u. t- L一、打磨：要考虑打磨的工具。根据工件的尺寸大小和厚度，可选择砂轮或砂带，选择好工具好还要选择砂纸，根据铝合金的种类及硬度不同选择不同的砂纸，砂纸的磨料也有区别，有刚玉的，有钛钽的，根据需要选择；同时因打磨过程中要产生热量，还需要考虑打磨时用的润滑剂。
* P/ ~% E: z+ X7 j. \二、抛光：抛光分为粗抛和精抛，分为四个过程 ，粗磨、除油、软皮磨光、显色磨光。根据要求不同可以采取不同的步骤。
4 ?" m( h1 C; R3 {希望能给你有所帮助。
作者: mongol    时间: 2006-12-23 17:20
另外，论坛上有本“铝表面处理手册”下载下来有很大的帮助。
作者: keqinxu    时间: 2006-12-23 18:48
用喷砂处理不行吗?
作者: wujingdong    时间: 2006-12-25 11:55
可以试一试化学方法抛光。我认为效果会很好。
作者: fist    时间: 2007-6-3 11:53
什么化学抛光？？？说具体点啊
作者: Jerry-kong    时间: 2007-7-3 13:39
原帖由 hankzyg 于 2006-10-27 23:32 发表 http://www.3dportal.cn/discuz/images/common/back.gif8 x' ~% z1 q1 E" P) r. C
各位大侠：( \* `1 C# c  [7 J' w. ?
今日老大要求我展开打磨抛光制程，很苦恼啊，是关于铝合金打磨刀纹的，不知如何下手啊，请哪位赐教啊
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# `; j- S6 R. w

3 j& s- ^. i3 i9 O9 b手工打磨简单工艺总的要求：1.工具：抛光机（一般电动工具店都有，好的品牌Bosch/Black&Decker等）: r4 H# L2 e0 p( u$ R; m
2.总的原则：先用粗的砂纸（如P350)抛光（注意抛光的纹路）-----再用较细的砂纸（如P600)抛光----最后用百洁布进行最后抛光（当然还要用请水清洗，抛光人员技术好的话，表面粗糙度可以达到Ra 0.4呕）  S5 u- \+ h1 R4 S( h
这些都是我所尽力过的，哈哈。。。。。
作者: Jerry-kong    时间: 2007-7-3 13:40
原帖由 wujingdong 于 2006-12-25 11:55 发表 http://www.3dportal.cn/discuz/images/common/back.gif
$ |! Y2 j9 Y% L7 @, J" M$ C" |3 `可以试一试化学方法抛光。我认为效果会很好。

4 c& m; i+ k1 G& w6 t$ L/ a8 w5 }

) b" c# |) I0 `) F: i3 b
7 M. {" t! F" v* E注意电抛光适用于不锈钢件！！！
作者: cdcylchh    时间: 2007-7-3 14:08
化学抛光是利用化学方法，在一定的温度下，把制品置于抛光液中，进行化学反应，以
9 H0 v' F* g- x6 J得到光亮平整的制品表面。
作者: xyh1018    时间: 2007-7-8 22:38
标题: 铸铝及铝合金表面处理：铝化学抛光
一、对铝制品表面进行机械抛光：   P; H4 v2 x/ B: V

2 U  d6 U  F. B) P/ o6 G3 `# v% k1、机械抛光工序为：粗磨、细磨、抛光、抛亮、喷砂、刷光或滚光等，根据制表面的粗糙程度来适当采取不同的工序。 - h& W8 B; Q: n0 b) B
0 j' n; q0 P/ m* Q: l; B6 `/ U# m
二、化学除油： 7 ~9 `- Z/ c8 P& v" F
1 M+ q* r" _2 R  t( J& }7 q) p
化学除油过程是借着化学反应和物理化学作用，除去制件表面的油污。化学除油采用弱碱性溶液中进行。
- a5 j1 v  t/ N9 M9 T7 Y$ d, @" s! }- b, @
化学除油液的配方和工艺条件：
6 F1 L3 ^9 r" F( Z
( x  C; `7 o8 a0 F1、配方：氢氧化钠30-50G/L，工业洗涤剂0.5-1ML/L，水70-125G。 % K3 l& g6 N/ @) I
$ y( J6 U) L7 b( `- b
2、工艺条件： 温度：50-60度 时间：1-2MIN ) U4 u% z; r# ~

! W  l7 \# M3 p/ x0 ?( D, B3、除油后用清水冲洗。
5 H7 s4 U7 E" q  V3 j7 Z0 X
: M  k" m6 ?, z, E. w1 V4、化学除氧化膜：进行酸洗处理以中和制件表面残留的碱液，并除去其自然氧化膜，使之露出制件的铝及铝合金基体，对于含硅铝合金制作，必须用混合溶液进行酸洗，以除去其表面的暗色硅浮灰。
) d6 \# |5 K: d7 d" e
2 j' q, J7 V1 e0 X8 e! q酸洗液的配方： 4 X2 j% P( I; E1 O6 X2 [

7 u( I8 q; r- y- L2 C5 Y2 Y7 r5 B( G浓硝液200-270ML、L
7 e! a% D- H1 w  A" O5 n  C# E# ?$ d4 O7 w7 A: ?: k! p
温度 室温 时间 1-3MIN
/ o# E. P+ P: N3 o. o. I& S4 r, h1 \# p  N0 i/ a* ^
除去含硅铝合金制件表面氧化膜和硅浮灰的酸洗液配方：
) S, ?4 N) S: D9 J' M( P! h' n2 o
浓硝酸3体积；浓氢氟酸1体积。
( S& _3 d! P3 }/ ]
% t0 t: ^. A( ?7 d" H& e/ {温度 室温 时间 5-15MIN
6 R( @4 v% p) v" b+ K% [6 ~9 I* ^! c4 D
铝及铝合金制件经化学酸洗后，必须立即用流动温水和冷水清洗，以除去残酸，然后浸入水中，以备化学抛光。
( m& {7 F6 h6 S! H
! ]0 R; N- x# A5、化学抛光： $ z) O+ s1 E) w; v

+ j% W6 |  S# d, Q- F) j化学抛光是利用铝和铝合金制作在酸性或碱性电解质溶液中的选择性自溶解作用，来整平抛光制年表面，以降低其表面粗糙度、PH的化学加工方法。这种抛光方法具有设备简单、不用电源，不受制件外型尺寸限制，抛兴速度高和加工成本低等优点。
7 v( D1 X. \0 V) Z$ u' d, u9 e- e) X8 d( _
铝及铝合金的纯度对化学抛光的质量具有很大的影响，它的纯度愈高，抛光质量愈好，反之就愈差。
7 W1 m$ s% Y" q- B3 K9 d0 b
2 S: U/ z% z+ n1 k" v# r2 \5 f化学抛光就是采用简要的粘性液膜理论进行的。 * I) Q0 f! N( J! U2 Q/ b
  k! \& M, @5 t5 K9 c# ~
抛光液配方和工艺条件： ) n8 d0 }. w% l# M" g
' y7 p; g; Y# `' ^0 O% e
配方一：（重量份） & h2 d+ @2 @% I; u7 M2 i/ w

3 ^# f" ^% U+ X浓磷酸75% ；浓硫酸8.8%；浓硝酸8.8%；尿素3.1%；硫酸胺4.4%；硫酸铜0.02%。
7 C6 [; Q  Y" K( c1 C' u. t
* s% q( `8 a" A6 a: K温度100-200度 时间2-3MIN 9 }& |4 K1 i2 e. I

. R# z5 o6 }  M6 ?$ {配方二：（重量份） 6 l! Y3 P& c, b' |
: N- `; h( _. h, [9 ~
浓磷酸85%；浓硝酸5%；冰乙酸10%。 1 Z: Q" y; @% M4 Z& o9 I9 R

* B2 i5 ?( }% k( H) ?* h" C温度90-105度 时间2-5MIN ! [6 F0 n. N/ e/ U$ ]! Y( n: B

6 @" a0 {+ u1 i2 u: y, N抛光液的配制方法： ; ]5 v/ h) }7 ~: Y
6 T  h( Z" u0 M% a( G# Q! S
1、先把磷酸、硫酸和硝酸按照一定的（%）重量，逐渐依次倒入抛光槽内，小心拦匀。 # J- w. i, c/ r( m2 ?7 {

: `; M& U5 T# i* Y- p; V2、再按配方的成分，分别用水溶解一定（%）重量的冰乙酸、尿素、硫酸胺、硫酸铜加入槽内拌匀。 " {9 b6 S8 x  ^, a( F) w6 r

' a  P: w" m1 J( {: m. r) _) s$ S3、然后，在搅拌状态下，逐渐调节上述抛光液至各配方所需的温度范围，即可进行化学抛光。 3 D- ~6 q" y7 F; a6 h7 v8 D

0 a% A9 h3 ^* W2 `; c% Q三、化学抛光工艺条件的影响：
: b: I- `/ s/ O$ Y: H
/ k+ G3 q. d3 C% T( r, Z. M$ N" e1、温度影响： 温度应控制在90-115度之间，其中最佳温度为105度。
. ~; ^, _; v# g. p0 d- d7 r% }. W) |$ r/ m; ~: D
2、抛光时间的影响：抛光时间与抛光温度成反比，温度低延长抛光时间，温度高缩抛光时间。



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