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无机材料学报+ Z( n- t8 ~$ k! _
第24卷第6期2009年11月$ L$ |. Q% y0 j) k
齐涛，郭喜平! s! T/ K/ k; D, k: X* ?1 Q+ g
(西北工业大学凝固技术国家重点实验室，西安710072)4 A! A) l ^7 l/ F I" G4 q3 |
摘要：采用Si．Y：O，包埋共渗工艺在铌硅化物基超高温合金表面制备Y改性的硅化物涂层，研究其在1250'12的恒温氧化性能．采用扫描电镜(SEM)、能谱(EDS)与x射线衍射(XRD)分析Si—Y：0，共渗涂层氧化前后的物相组成和组织变化．结果表明：涂层具有明显分层的结构，由外至内依次为(Nb，X)Si：(X表示Ti，Hf和Cr)外层和(Nb，x)，si，过渡层，在过渡层与基体之间有不连续分布的细小(cr，AI)：(Nb，Ti)块状沉淀．EDS分析表明。涂层中的Y分布是不均匀的，(Cr，Ai)2(Nb，Ti)相的Y含量为0．94at％左右，而(Nb，X)Si2和(Nb，X)5Si3相的Y含量为0．46at％～0．57at％．经12500C分别氧化5，10，20，50和100h后，si-Y203共渗涂层保持其原始的相组成，并在其表面形成以Ti02、Si02和Cr20，组成的致密混合氧化膜，且与基体结合良好．3 D/ a, i# w" b7 \: p- ?& Y# M
关键词：铌硅化物基超高温合金；Si．Y：O，共渗涂层；涂层结构；高温抗氧化性能6 g$ i, v4 G g8 D& ]
中图分类号：TBl74 文献标识码：A |
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发表于 2011-11-22 14:34:26
