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发表于 2011-11-14 16:03:18
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来自: 中国黑龙江哈尔滨
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衣晓红,樊占国,张景垒,李凤华
) T& S( o: U, _ }, n4 J(东北大学。辽宁沈阳ll0004)
+ n/ D! |5 C( Q: f& t摘要:采用固体粉末渗硼法对TC4钛合金基体表面进行渗硼试验。通过扫描电镜(SEM)、能谱(EDS)与X射线衍射' t6 s) p# ?) ]2 `
(xRD)研究TC4钛合金渗硼后的物相组成和组织形貌,讨论渗硼过程中元素的扩散行为。结果表明:在lOOO,1050和
5 W. R! j4 [8 N: h+ C; K1 u8 {! Klloo℃分别保温5,20 h后,渗层由外表层的TiB2和内表层的TiB晶须组成,渗层厚度范围为0.8~15岬。XRD分析
! v4 H* s, M G表明:TC4钛合金渗硼后形成TiB2与TiB双相硼钛化合物层,随着温度的升高,TiB2与TiB的峰位增多;EDS分析得+ U+ H# V9 Z4 J3 o
出表层B原子被TC4钛合金吸附后与基体的Ti化合导致过渡区域内的Ti含量减少,同时Al和v元素开始向基体扩散
# v( p. L) v- y& y+ ~3 h6 \并在近界面处富集。渗层的显微硬度呈梯度分布,TiB2到TiB晶须维氏硬度值的变化范围为22 000~11 000 MPa,过渡
/ S9 o; h+ f2 }. a区的硬度值要高于基体的硬度值。
4 ~1 P, Z D& q关键词:固体渗硼;TC4钛合金;显微硬度;组成;硼钛化合物: |
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