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发表于 2011-11-14 16:03:18
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来自： 中国黑龙江哈尔滨
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衣晓红，樊占国，张景垒，李凤华* A$ p, \0 L$ E r* c7 |# F K5 R
(东北大学。辽宁沈阳ll0004)3 g) W2 s/ g- M, A# ?) \7 _
摘要：采用固体粉末渗硼法对TC4钛合金基体表面进行渗硼试验。通过扫描电镜(SEM)、能谱(EDS)与X射线衍射
; }. E- L6 [" o- C5 s6 Z" h, Q(xRD)研究TC4钛合金渗硼后的物相组成和组织形貌，讨论渗硼过程中元素的扩散行为。结果表明：在lOOO，1050和
$ _2 O) P/ N: k1 Blloo℃分别保温5，20 h后，渗层由外表层的TiB2和内表层的TiB晶须组成，渗层厚度范围为0．8～15岬。XRD分析- F3 _; ^9 ] O
表明：TC4钛合金渗硼后形成TiB2与TiB双相硼钛化合物层，随着温度的升高，TiB2与TiB的峰位增多；EDS分析得
5 t! T. |) } m( T% P( q) l J出表层B原子被TC4钛合金吸附后与基体的Ti化合导致过渡区域内的Ti含量减少，同时Al和v元素开始向基体扩散 I) A4 }1 U* b0 @- \7 S
并在近界面处富集。渗层的显微硬度呈梯度分布，TiB2到TiB晶须维氏硬度值的变化范围为22 000～11 000 MPa，过渡+ H6 y. ?, N( _4 M; l9 O) B# m4 v
区的硬度值要高于基体的硬度值。
* C; A* ]/ I( N3 n& \! Q关键词：固体渗硼；TC4钛合金；显微硬度；组成；硼钛化合物： |
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