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碳化硅及碳化硅制品生产新工艺新技术与新设备选用质量验收标准全书0 R% z7 T% w6 ^$ @# r' k5 M
0 I% z& v8 N) A. F7 } `! I3 ?
第一篇碳化硅生产原料
; V- R8 J _! g' J9 q/ Q; z# e+ y第一章脉石英2 I$ `/ E) L0 o+ K7 E8 f
第二章石英砂
! z- A1 h4 k" W* t+ _ D. `第三章石油焦
; v4 `8 \( n; |" h第四章其他材料2 S/ ^5 a. A( Z
第二篇碳化硅结构及性能
9 ~ {5 `5 i, A' i第一章碳化硅晶体结构: c; V6 u+ X. R( u6 V! L7 O
第二章化学成分
1 E" L# t6 E' X: R* w- B第三章碳化硅的色泽! ]! D* q* N+ J
第四章碳化硅的物理和电化学性能0 ~1 H+ F7 o; X) M( k
第五章碳化硅稳定性与氧化4 i/ ]/ Q9 ^6 z
第三篇碳化硅合成工艺技术
. n% ?! t% N$ \' a5 Q第一章碳化硅冶炼工艺' i" e8 m: j! Q* M: j. ^& E' S# _
第二章碳化硅砂的整形处理
p- C* [0 K5 i1 {8 i第四篇碳化硅技术条件, _& c* p E! W0 w6 }& a/ e! d
第一章碳化硅理化性能条件5 @4 ]1 c6 D& L8 G8 F, w& R" D
第二章碳化硅粒度条件6 `; n9 m; ?0 s
第五篇碳化硅烧结的基本理论
' r6 ` J) T0 r$ h1 ?9 m7 o1 W- c第一章烧结的扩散理论
! P9 b& f# U0 \第二章烧结的流动理论$ N( O( v% A6 [
第三章烧结的几何理论1 ~% a8 Z: H4 d& H
第四章强化烧结理论: p* _: \* \. G
第五章烧结过程计算机模拟
9 i5 K0 T- ?" I: |! C5 b第六篇碳化硅液相烧结技术
8 h: f/ a/ m5 _2 }2 F3 ], b V0 m第一章液相烧结的条件与过程. @1 c1 X3 S& g0 H' x; h0 q8 [
第二章影响液相烧的因素
# J2 L; X' ]$ m: o) G3 Y( }: \. m第三章液相烧结的优点与局限( g7 D9 w; ?3 Y4 Q( @' r
第四章液相烧结的发展与应用
: r9 H9 X/ o1 `( z( k# }, `- i第七篇碳化硅粉末制备工艺
2 B7 B$ V7 a% u. O9 h$ f# L: ^第一章碳化硅粉末制备方法
0 f3 q6 k! r6 D1 r3 n- ]第二章碳化硅粉末制备工艺
?& V" _+ L: i# M2 a目录: z1 f4 _( [) g3 \0 j
第一章固相法制备碳化硅粉末概述* `: d9 s9 E e' w, \. p3 @$ Z+ v$ Z8 G! Q
第二章自蔓延燃烧合成过程与设备, a' f# h8 R2 [2 q
第十一篇碳化硅微粉分级、分离技术及
6 G6 C& S7 S8 _设备( }- N$ s0 D* R: o, \
第一章分级和分离理论4 ~6 _* `6 F$ {$ Q9 J y$ c+ W
第二章分级设备. P/ k# c! s: G6 G5 Q
第三章超细分级原理及理论9 |+ E1 F7 ~9 q% S
第四章分离设备
0 V) J% U7 w# c$ z L" K第十二篇碳化硅粉体输送设备! H# y7 e |( F9 i, W4 G
第一章胶带输送机
9 V8 h8 [/ N2 D( N( Z7 P: g第二章螺旋输送机: i* y& K5 L: k9 }* ~& z5 Z2 q
第三章斗式提升机; N, |1 x' ^* S l; V( U
第四章链板输送机6 W7 s& m" W0 r. a5 V
第十三篇碳化硅陶瓷及其复合材料制备
) m# Y8 G# {8 I# M技术2 e9 B/ e+ f+ U5 H6 B
第一章碳化硅陶瓷的结晶形态和晶体结构
: K+ W8 @1 n1 G第二章碳化硅陶瓷的基本特性: S1 N+ D# Q1 d! x2 Z5 u( C- v
第三章碳化硅陶瓷粉体的制备2 s, O* u) v% S! O
第四章几种碳化硅陶瓷的致密化工艺
# M0 u7 H+ Z3 D) e/ F第五章反应烧结碳化硅陶瓷
1 U4 b( v8 L. G. V第六章无压碳化硅陶瓷 W; y! s2 B3 T) f
第七章热压碳化硅陶瓷
9 _, Z& _, L9 w1 V' h第八章高温热等静压碳化硅陶瓷# B7 J3 ~6 o2 @4 g) Y* L) t
第九章碳化硅陶瓷基复合材料
# _# y7 I& ?9 K1 _8 [" a3 p9 l第十章碳化硅陶瓷及其复合材料的应用
* O; T O( j7 u9 ?- l. v第十四篇碳化硅陶瓷材料的成形与烧结技术
# @: Y3 a' e. H) B第一章普通成形方法, K0 c/ D& N8 n# {3 r2 f
第八篇液相法制备碳化硅粉末设备0 N; h3 D) W' a: J& T6 T' M* K
第一章水热法制备粉体设备7 q) \/ A& V2 B2 S) y* u+ X
第二章溶胶一凝胶法制备粉体设备
. ^% @. Q) j1 V3 l第九篇气相化学反应法制备碳化硅粉末设备
5 t1 N r) c$ w. E第一章气相化学反应法制备粉体设备; V1 L" r! r- {/ T, C; b& I
第二章激光气相合成法设备
9 S% P# Z+ S" Q, V第三章等离子体气相合成设备2 _ ^ {, ^# W+ J, y5 b5 x* }
第十篇固相法制备碳化硅粉末设备( H' ?5 v4 v% X1 T4 j; G o& Z
第二章等静压成形方法
* Q$ u. J$ P/ ~- t7 P第三章微机控制无模具成形方法4 @3 o/ s( Z8 J# s# m% l: H* x
第四章原位凝固成形方法 p( i' C, s, j* W/ ~3 h
第五章普通烧结方法5 {- [- D2 L) w+ c* ]
第六章微波烧结方法8 b: Y% ?3 z, F% C/ m7 X' W6 q
第七章热压烧结方法1 H/ d# g. ^3 J6 A8 e$ H
第八章自蔓延高温合成法2 j1 Q# G- g+ x0 ]7 d' o
第十五篇碳化硅质耐火材料制作技术9 n7 j' l1 C- L! l7 r* A
第一章复合碳化硅质窑炉烧嘴制作的工艺
5 c( h @, R- V3 I b6 m3 W第二章碳化硅窑辊防氧化处理新技术
8 V- h- d* [! E. i8 a第三章碳化硅节能、降耗、提质新工艺- f/ C2 _+ I( Y8 g( g; M6 j
第十六篇碳化硅质量验收标准* t! D+ [5 q) \9 y9 O
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发表于 2007-7-6 09:51:06