QQ登录

只需一步,快速开始

登录 | 注册 | 找回密码

三维网

 找回密码
 注册

QQ登录

只需一步,快速开始

展开

通知     

全站
8天前
查看: 3044|回复: 7
收起左侧

[讨论] 请教关于PN结的问题!

[复制链接]
发表于 2009-5-22 12:19:33 | 显示全部楼层 |阅读模式 来自: 中国四川成都

马上注册,结识高手,享用更多资源,轻松玩转三维网社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有帐号?注册

x
PN结的正向电流大致和两个因素有关系:电压和掺杂* x5 |4 s7 ~* v5 v) }
) l3 \, C3 Z+ B/ k& S% O9 l7 T7 o
电压一定时,掺杂越低,电流越大,而且主要取决于低掺杂一侧7 k9 b4 U' J" @0 B8 I% L; J9 \
7 m5 v) P2 y4 R+ m
那么,当掺杂越来越低,最终到不掺杂时,岂不是电流是最大的?这显然与事实矛盾
" C3 z8 r" d/ R: Q
2 M$ B) W) t4 u: w  P" h' E那么掺杂到底是多少时,可以得到最大的电流呢?
发表于 2009-5-22 16:09:55 | 显示全部楼层 来自: 中国重庆
貌似 半导体掺杂越多,电流越大吧.而不是掺杂越低,电流越大
发表于 2009-5-22 19:43:48 | 显示全部楼层 来自: 中国贵州遵义
学习中,期待正解! 天天关注
发表于 2009-5-23 18:56:55 | 显示全部楼层 来自: 中国黑龙江哈尔滨
半导体材料掺杂可以大大降低材料的电阻率。在一定范围内,掺杂浓度越高,电阻率也就越低。5 _. f2 {5 @6 `( }7 Y# p
0 O# R# i4 X# O- l
在使用不同的掺杂工艺,使其硅或锗单晶基片上一边形成N型半导体,另一边形成P型半导体,在两种半导体交界面附近形成PN结后,这时的主要矛盾就由电阻率的变化转化为PN结处形成的空间电荷区的反向电场强度。在一定范围内,掺杂浓度低,空间电荷区的反向电场强度也就较小,所以在施加正向电压时,相对电流就会较大。但这也有一定的限度,当掺杂浓度为零(实际上应为接近零时的某一值)时,这时的半导体材料不能形成PN结,就是一个通常意义上的半导体了。这也就是人们常说的从量变到质变的过程吧。8 l- M) h- u! b. ]6 v# s( ~

$ Z+ v" j$ L1 n1 G" V, H当然,掺杂浓度的变化还会影响到PN结的其它各项参数指标和性能。
, G3 P8 k9 l! w1 Q0 x7 x
# l; B) ~7 k6 a6 r# U* K6 `+ H5 I. x[ 本帖最后由 pangpang 于 2009-5-23 19:04 编辑 ]
发表于 2009-5-23 19:09:59 | 显示全部楼层 来自: 中国广东深圳
楼上分析得很对。
 楼主| 发表于 2009-5-24 10:39:57 | 显示全部楼层 来自: 中国四川成都
非常感谢4楼的解答!
发表于 2009-5-24 11:23:16 | 显示全部楼层 来自: 中国广东深圳
学习了,有收获
发表于 2009-5-25 22:54:25 | 显示全部楼层 来自: 中国河北衡水
原帖由 pangpang 于 2009-5-23 18:56 发表 http://www.3dportal.cn/discuz/images/common/back.gif
8 U, j! ~) K6 a% ~半导体材料掺杂可以大大降低材料的电阻率。在一定范围内,掺杂浓度越高,电阻率也就越低。2 V. p. J$ W+ s/ S/ ]2 f; \) @

/ @; i" y* ]1 m2 U" V: Y, @在使用不同的掺杂工艺,使其硅或锗单晶基片上一边形成N型半导体,另一边形成P型半导体,在两种半导体交界面附近形成PN结 ...
" S6 Z; I* U# s2 j
$ c) T# N3 c4 B0 j
解答比较清晰,进一步的理解还需查阅有关半导体的专业书籍.
发表回复
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

Licensed Copyright © 2016-2020 http://www.3dportal.cn/ All Rights Reserved 京 ICP备13008828号

小黑屋|手机版|Archiver|三维网 ( 京ICP备2023026364号-1 )

快速回复 返回顶部 返回列表