真空溅射镀膜的相关概念

liyuyin007

真空溅射镀膜的相关概念
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/ o7 k. r; J; M% d2 B5 Z: D3 k2 p0 F在真空中，被加速的离子碰撞固体时，一方面使晶体受到损伤，另一方面与构成晶体的原子相互碰撞，最后使固体表面的原子或分子向外部溅射，溅射物质镀到基片上形成薄膜，称为真空溅射镀膜。溅射方式很多，其中应用最早的是二极溅射，根据阴极靶子不同，分为直流(DC)和高频(RF)两种。用一个离子打击靶表面所溅射出来的原子数称为溅射率。溅射率大，膜层生成速度就快。溅射率与离子的能量、种类、以及靶材料的种类有关。一般地说，溅射率随人射离子能量的增大而增大，贵重金属溅射率较高。表2表示几种靶材料和几种离子对于500电子伏离子能量的溅射率。 0 X4 d: p; j6 ^: P 表1 对于500电子伏离子能量的溅射率 ; ]7 T  i4 z  L/ b: dhttp://bbs.chvacuum.com/images/default/attachimg.gif http://bbs.chvacuum.com/attachments/month_0904/09042410588d031215d5b8f901.gif 下载 (15.77 KB) ' ?8 I9 d! g+ g( k  ]4 Z7 天前 10:58

laoniu16

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