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蓝宝石衬底的化学机械抛光技术的研究
n0 Z1 ?7 f3 W 王银珍,周圣明,徐 军& i+ X8 E2 s5 _+ Z/ p2 _
(中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800)% P/ v: `3 X" Q- C R8 V5 _: \
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【摘要】介绍了蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺,概述了化学机械抛光原理和设备,讨论分析了影响蓝宝石衬底化学机械抛光的因素,阐述了CMP 的主要发展趋势:能定量确定最佳CMP 工艺,系统地研究CMP 工艺过程参数,建立完善的CMP 理论模型,满足不同的工艺要求和应用领域,有效降低成本,提高产量。, ?2 T/ ]% `( b* o9 x
【关键词】蓝宝石;衬底;化学机械抛光2 l) P" A8 x2 [4 A& L
【来源】《人工晶体学报》2004 年6 月 |
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发表于 2008-1-17 19:39:18
