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蓝宝石衬底的化学机械抛光技术的研究* ^; K& |% u! ~' G
王银珍,周圣明,徐 军 @+ G c1 S( z+ n; x
(中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800)
Y$ d. ?, U2 u, }2 B1 g- s$ d9 t1 m1 \* d' w* f3 e# h
% E- y# a+ ^! k# J5 {; ?; z【摘要】介绍了蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺,概述了化学机械抛光原理和设备,讨论分析了影响蓝宝石衬底化学机械抛光的因素,阐述了CMP 的主要发展趋势:能定量确定最佳CMP 工艺,系统地研究CMP 工艺过程参数,建立完善的CMP 理论模型,满足不同的工艺要求和应用领域,有效降低成本,提高产量。* c- V. d' h! n, b) K
【关键词】蓝宝石;衬底;化学机械抛光& F i! o! M* y; u
【来源】《人工晶体学报》2004 年6 月 |
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发表于 2008-1-17 19:39:18
