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发表于 2011-11-14 16:03:18
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来自： 中国黑龙江哈尔滨
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衣晓红，樊占国，张景垒，李凤华. L* P- ?) W8 a
(东北大学。辽宁沈阳ll0004)$ }, Z9 |4 L: e+ Q, ?7 y$ `
摘要：采用固体粉末渗硼法对TC4钛合金基体表面进行渗硼试验。通过扫描电镜(SEM)、能谱(EDS)与X射线衍射& V9 v. Q* T% z+ C
(xRD)研究TC4钛合金渗硼后的物相组成和组织形貌，讨论渗硼过程中元素的扩散行为。结果表明：在lOOO，1050和
% r8 d+ }2 j( {, Rlloo℃分别保温5，20 h后，渗层由外表层的TiB2和内表层的TiB晶须组成，渗层厚度范围为0．8～15岬。XRD分析4 R1 Z5 N/ X6 K! J6 D: e0 b2 n1 w
表明：TC4钛合金渗硼后形成TiB2与TiB双相硼钛化合物层，随着温度的升高，TiB2与TiB的峰位增多；EDS分析得
4 D$ `# J9 g1 z/ k1 [出表层B原子被TC4钛合金吸附后与基体的Ti化合导致过渡区域内的Ti含量减少，同时Al和v元素开始向基体扩散
% u6 P8 f' ]& Z/ P并在近界面处富集。渗层的显微硬度呈梯度分布，TiB2到TiB晶须维氏硬度值的变化范围为22 000～11 000 MPa，过渡& v8 }" O3 ^* q7 I$ A0 L. C) n% K
区的硬度值要高于基体的硬度值。
* J6 E, K( m. V4 C; X0 q; G关键词：固体渗硼；TC4钛合金；显微硬度；组成；硼钛化合物： |
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