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发表于 2009-12-2 11:03:37
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来自: 中国广东深圳
单个pn结电容非常小,在一个VLSI的SoC设计中并行的电容总和通常是几个纳法,在连接到电源网络之前将源区和基底直接连接可以短路掉这个电容。这种技术还消除了进入基底的瞬时负电流而导致的体效应(body effect)。体效应会增加耗尽区,并导致晶体管的Vt变高。同样的技术也可以应用于n阱p沟道晶体管,以减小容性耦合噪声。
% t8 K6 O, j& y7 O& M9 S/ W7 N' z2 M然而,包含层叠晶体管的数字电路或者模拟电路通常都需要隔离源区。在这种情况下,增加Vss到基底或者Vdd到基底的电容能够降低噪声瞬态值。对模拟电路设计来说,体效应通过改变偏置电流和信号带宽降低了电路性能,因此需要使用其它解决办法,如阱隔离。对数字电路,采用单一的阱最理想,可以降低芯片面积。通过认真的设计可以对体效应进行补偿。
8 x, t, U! W4 i9 ^3 G基底噪声的另一个来源是碰撞离化(impact-ionization)电流,该噪声跟工艺技术有关,当NMOS晶体管达到夹断(pinch-off )电压时就会出现这种情况。碰撞离化会在基底产生空穴电流(正的瞬间电流)。 8 c& f6 z; Z! D( K1 {( \: m
通常,基底噪声的频率范围可能高达1GHz,因此必须考虑趋肤效应。趋肤效应是指导体上随着深度的增加感应系数增大,在导体的中心位置达到最大值。趋肤效应会导致片上信号的衰减以及信号在芯片p+基底层的失真。为最大程度减小趋肤效应,要求基底厚度小于150微米,该尺寸远远小于某些基底允许的最小机械厚度,然而更薄的基底更易碎。 |
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