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发表于 2009-4-16 19:30:27
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来自: 中国北京
在塑件的加工时,要关注到几个问题,其一塑胶料在加工时要充分烘干,否则残留的水分会对塑件表面造成气孔、流线纹等缺陷,严重影响电镀的效果,另外尽量避免使用脱模剂,因为脱模剂的使用会对电镀膜的附着力产生影响.在结构设计时有几点也要关注外形要适合于电镀处理:0 y( n9 v: `7 \
1)表面凸起最好控制在0.1~0.15mm/cm,尽量没有尖锐的边缘。" a. S$ V4 S& A" t, q. T' l
2)如果有盲孔的设计,盲孔的深度最好不超过孔径的一半,负责不要对孔的底部的色泽作要求。' G/ m1 y0 {$ R5 m" d. w0 o' v
3)要采用适合的壁厚防止变形,最好在1.5mm以上4mm以下,如果需要作的很薄的话,要在相应的位置作加强的结构来保证电镀的变形在可控的范围内。
( Q7 p2 L2 L* I: z5 w4)在设计中要考虑到电镀工艺的需要,由于电镀的工作条件一般在60度到70度的温度范围下,在吊挂的条件下,结构不合理,变形的产生难以避免,所以在塑件的设计中对水口的位置要作关注,同时要有合适的吊挂的位置,防止在吊挂时对有要求的表面带来伤害,如下图的设计,中间的方孔专门设计用来吊挂。 A7 i' c; G3 }* f
鍍鉻之影響因素# \4 F1 C. C: }8 |5 V
(l) CrO3濃度與導電度關係1 w+ b& ?/ i7 K
(2) 溫度興導電度之關係3 v9 j3 M! E5 K
(3) CrO3濃度與電流效率之關係
7 n. \2 q, b' W; c: y (4) 硫酸濃度之影響1 }: p5 x8 H; x8 \
濃度低時,低電流密度下電流效率高,反之電流效率低‥
( N: }9 Y- l4 r% t* E% W, X5 H (5) 三價鉻的影響
& C" _6 A6 Q. X: _4 j 1. 三價鉻很少時,沈積速率減媛。
" Z _% R7 v' Z# g 2. 三價鉻很高時,鍍層變暗。) a0 m s7 t4 E+ d6 c" }$ R
3. 三價鉻增加,則導電度降低,需較大電壓+ P j6 A5 F" O: r
4. 三價鉻愈多,光澤範圍愈小。3 e; Z* Z I4 ^ Y
(6) 電流密度及溫度的影嚮
! k' @( A1 s# H: n7 M* n3 N 1. 鍍浴溫度升高,電流效率降低。6 J9 D0 v& H. m9 S# t
2. 電流密度愈高,電流效率愈高。$ a9 N5 N& W! |7 \( F, M e
3. 高電流密度,低溫則鍍層灰暗,硬度高脆性大,結晶粗大‥8 i( d9 w9 e0 l0 d
4. 高溫而低電流密度,鍍層硬度小,呈乳白色,延性好,無網狀裂紋,結晶細緻,適
9 n2 O) }6 a7 p0 v6 I8 h 合裝飾性的鍍件。
+ S5 h0 m9 Q1 J& \' L7 a% ] 5. 中等溫度及中等電流密度,鍍層硬度高,有密集的網狀裂紋,光亮硬質鉻鍍層。
; d, \9 \* ?/ q* j0 M6 c! x8 p (7) 陽極及電流分佈之影響
! ]" }& z$ |; S% f$ }; C9 s: { 1. 陽極較大,電流分佈較不均勻使鍍層厚度不均勺‥
% p: d9 }' u/ p7 |) `5 [& Y; D' @ 2. 陽極面積大,三價鉻形成較多。
: a9 F8 X: f+ X 3.復雜鍍件,陽極宜用象形電極或輔助電極,使電流分佈均勻。! s8 W# N$ X" @2 H9 [7 N5 p& s
(8) 鍍層針孔2 s- s' n! `* ? R
1. 前處理不佳。
+ J0 L! P8 k% L6 O3 Y7 {* Z" K8 N2 M 2. 氣體停滯鍍件表面上。
+ E2 Q! C" t7 b v. E 3. 鍍件被磁化。% X6 t9 P8 h* U$ R0 I* X! k" u
4. 浮懸雜質。* @- U9 r7 P1 i4 J7 Q( c+ ^/ s
5. 表面活性劑。
) M8 y5 `- o5 C# J! u1 w/ } 6. 鍍浴有磁性粒子。
* c0 U n x! x 4.陽極的鉛易氧化,形成黑色的氧化鉛及黃色的過氧化鉛。過氧化鉛% \# y3 k+ J6 B( s
導電性不良,應立刻除去。
" V. M1 ~- H% d2 p0 r u 5.電流因尖端及邊緣效應,造成鍍層厚度不均,可採用絕緣物遮蓋尖
# N) ?7 f/ L3 u' d- c5 i( B4 \5 v8 ?7 U 端或邊緣。
1 u% n* g$ Z* V 鍍層脫落
5 i. g# {) y" _ 1. 前處理不良。
% q7 {: P" S& _2 X5 |0 u 2. 中途斷電。1 Q: _$ S$ g4 R1 F; `1 q1 r
3. 中途加冷水。
7 ~. g8 S3 K w: Z 4. 預熱不夠。
* w# R" U0 A# A+ v' K1 r6 l (a) 局部無鍍層
- r/ V, G6 ?+ H- m' k' A* U Q 1. 電流太小。
: B$ q5 B. }. r" S 2. 鍍件互相遮蓋。5 Y/ F3 ^* V, Y, ]5 E
3. 裝掛不當,氣體停滯。
2 i; O; ]8 B8 q8 `7 X8 O (b) 鍍層不均勻6 w5 t& J" q9 q$ H5 K
1 掛具接觸不良。
* N: S3 B( A* d, N K 2 氣體不易逸出。8 `" `, F% J+ d, I
3 陽極型狀不當./ ~( ]1 e: q6 G% F' j
(9) 鍍鉻的氫脆性 N; F' h( N" e, q* C1 `
5 r# T8 F( h, |; S, ~4 j
鍍鉻的電流效率非常低,所以產生大量的氫氣,會引起氫脆,尤其是
7 B9 ^1 u8 |( j7 Y/ h, [" f }硬化鋼、高強度鋼更需注意,氫脆性增加的因素有 % `9 ~" T6 H/ E( ?. M |) s
(a) 鋼鐵之硬化處理。 (4) 酸浸。1 {, Z, M3 u; x6 Q7 C! Y
(b) 研磨 。 (5) 硬化厚度與鍍層厚度‥; c2 g" D! w8 ^0 u9 Q0 [, T7 R
(c) 表面缺陷。
# n$ T, B2 v- C# x8 p" o5 v去除氫脆方法有 :/ V% I- `$ V. r3 e* g! e$ y
(d) 鍍前先做應力消除(stress relieving) : 鍍鉻表面必須沒有應力存
9 A+ [1 F$ D4 u) x: { 在,一般鍍件經機械加工、研磨,或硬化熱處理都有殘留應力(' k* J2 I) d7 v
residual stre6s) , 可加熱 150至230"C消除殘留應力。
7 a) n: b+ o% l7 y4 p* H. l (e) 鍍後烘焙(baking) : 可依照規範QQ-C-320B及Mil-S-13165 處理。8 [2 L) E1 |" ?- e6 Q/ q/ s
' F5 @0 c( C( K(10) 鍍鉻之管理與維護$ n) K0 H0 M1 \7 E" X7 D* i. f* o
(a) 每 天' }" L) S! i, k, I+ b
1. 將鍍槽添滿鍍浴。 .
. G5 O" U& E. i+ [ 2. 用低壓空氣徹底攪拌鍍液。 7 d8 h8 A) r) ]6 p. \( L7 t- X1 l
3. 檢查溫度控制器,綢整溫度於正常範圍內‥: C4 S7 N* d+ g0 Q
4. 檢查掛架並修護之。
* m6 a7 Y5 U& Y s 5. 用最大甯流15堊J30分鐘做淨化罔解處理‥$ n0 l8 u3 B3 d6 _6 G3 e
6. 哈氏槽試驗。1 Q3 G; H3 e- i) r. i
(b) 每 週& O! U7 ~* E* Z* K2 T7 T
1. 蒸發濃縮回收鉻鍍液倒回鍍槽內。
; N6 v' y4 Y# M 2. 檢驗催化劑含量並補充需要。' ^% M' Z- ^4 s6 x" C) h3 q4 n
(c) 每 月6 H* l0 L" j. y: o& G; e
1. 檢查鍍浴金屏雜質(Zn 、Fe 、Cu 、Nj ) ‥5 y/ E0 T( C) k0 K( m9 D$ A
2. 清潔及整理陽極。- h' [3 U' M8 ~& n' {
3. 檢查三價鉻含量。
, l) a- O) o9 o8 d K) @6 L(d) 每 年
$ \8 @5 J- {2 q Z: n3 a4 g 1. 檢查安培計及安培小時計。
' i0 A& \* T5 H/ d8 v: G' @9 C 2. 檢查及校正溫度控制器。# f+ W- T5 n( \% b' n8 X1 F
3. 清潔及修理所有槽外設施。; u& p9 n3 K9 a3 G. L2 w
4. 整修通風罩、輸送管路。- [+ `+ e7 {. b8 W3 W
5. 鍍液出清,去除積泥,清潔、檢查及修理鍍槽、加熱管及導電棒
2 V1 Z. Q+ d4 H" h 頭。陽極整理及更換。/ y0 c1 v) `6 h2 C
1 X3 y% w& g9 G: U4 l
[ 本帖最后由 hhq426 于 2009-4-16 20:34 编辑 ] |
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