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[已解决] TEM暗场像统计晶粒尺寸

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发表于 2009-3-12 17:03:50 | 显示全部楼层 |阅读模式 来自: 中国河北秦皇岛

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有了透射电子显微镜暗场像,怎么统计晶粒尺寸,我是新手,大家帮帮忙啊
发表于 2009-4-15 19:13:45 | 显示全部楼层 来自: 中国山东青岛
这个问题去专业学院咨询吧http://clkx.cust.edu.cn/
发表于 2009-4-24 15:21:08 | 显示全部楼层 来自: 中国甘肃酒泉
动力学原位变形已经通过应用透射电子显微镜观测活跃在晶粒尺寸占主导作用的,并且预测存在过度机制的纳米金属中的变形机制来完成。但是,关于从位错介导到晶界介导的变形机制的转变的直接试验证据还没有发布。 1 l  o- ~6 P* |
用于本研究的样品镍是在基部压力约为2 × 10-7毫米汞柱的真空状态下,由高能量脉冲KrF准分子激光照射在目标高纯度的Ni下合成的。反应产生的镍离子被沉积在标称厚度为150纳米氯化钠晶格底部。透射电镜观察(图1A )表明,沉积镍是由任意方向分布的各向大小相等的晶粒组成的(插图 1A )。暗场透射电子显微镜( DFTEM )统计测量的图像揭示了一个窄的,衰减的粒子分布,从几个纳米至23纳米,平均值( ±标准差)为9.7 ± 3.9纳米(图1B )。高分辨的透射电子显微镜表明,大多数粒子被大角度GBs分隔 。接下来的GB阶段,孔隙间隙,或晶粒间隙中在沉积后没有检测到这些样本。

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