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发表于 2009-1-4 20:50:34
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来自： 中国江苏苏州
物理气相沉积(PVD)，化学气相沉积(CVD)是表面处理的方法，也属本区块！所以请2楼仁兄别误会楼主在问热处理方法。
# D8 A+ ^5 C) N! T& o7 T* r: `+ ~+ W3 B# A
cvd 和pvd的区别？
M+ Z' C* _, U; e$ |* b `" |-->在真空腔中将靶材由电阻热/溅射/电子枪/激光等方式给与气相蒸发，然后再沈积于被镀件上称为PVD，若真空腔中通入适当工作气体(如乙炔)，使其与气相的靶材(如钛)先化学反应(如碳化钛)后再沈积于被镀件上称为CVD: F* c# v: m* \2 W3 T3 b
; m1 } x% B5 Y1 w, }
分别用于什么场合？
4 |: Z. i/ D6 B- F( z( {-->PVD > 金属类单一元素镀膜
4 F3 W; K; P9 ^0 I2 c7 P, \ CVD > 金属或非金属化合物多元素镀膜
. G1 I9 K% d, S, t q0 g* ^7 o! m+ M7 |( y
PS：我目前正负责PVC及CVD设备，欢迎同业来讨论。s_y_y1@hotmail.com1 F6 V# m6 M9 [% T O8 u
; Y3 |- ^. a8 k. g% U4 }0 p- H
[ 本帖最后由 s_y_y1 于 2009-1-4 20:54 编辑 ] |
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