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圆柱形平面式磁控溅射靶的特点与设计原理
# C3 p) |$ a& ?3 l( `孙东明(昆明理工大学机电工程学院,云南昆明 650093
8 i2 G1 c, q: v) B0 _/ d: ?摘要:介绍了一种根据矩形平面靶的结构原理设计圆柱形、平面式磁控溅射靶的方法. 并对如何
, t! ] L4 i, n: ^7 A0 W* q发挥圆柱形、平面式磁控溅射靶的优点进行了分析.
! U7 M; G }. w: b# ~7 J* T* [8 ?8 R) K关键词:磁控溅射;靶;真空镀膜
8 [) e$ H6 h( e6 Q' ?中图分类号:TB79 文章编号:1007-855X(2000)02-054-04 |
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