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[真空技术] 圆柱形平面式磁控溅射靶的特点与设计原理

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发表于 2008-6-6 02:32:26 | 显示全部楼层 |阅读模式 来自: 中国广东深圳

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圆柱形平面式磁控溅射靶的特点与设计原理) S3 t/ ]4 R7 }0 y7 J
孙东明(昆明理工大学机电工程学院,云南昆明 6500935 M2 ?0 X6 K/ ?# v0 j. ?+ ?& J4 a
摘要:介绍了一种根据矩形平面靶的结构原理设计圆柱形、平面式磁控溅射靶的方法. 并对如何
5 d: l  }" h7 |% J发挥圆柱形、平面式磁控溅射靶的优点进行了分析.
0 Y& c/ q, t- A5 R6 \) ]# A3 R关键词:磁控溅射;靶;真空镀膜
& W* S8 A7 A: X4 i0 b8 G6 L中图分类号:TB79  文章编号:1007-855X(2000)02-054-04

磁控靶设计.pdf

219.39 KB, 下载次数: 26

发表于 2008-11-19 18:34:21 | 显示全部楼层 来自: LAN
能夠把圓柱靶及平面靶的結構清楚表明,* h+ {2 y% r+ N$ n: ]4 Y) u* V
但是其磁場強度,磁力線圖等能不能有數值化的資料?
 楼主| 发表于 2009-5-12 14:32:57 | 显示全部楼层 来自: 中国四川成都
目前我都没看到过,国人都是一大抄。。。没有进行专门的研究分析啊。。。
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