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蓝宝石衬底的化学机械抛光技术的研究
- C5 `5 k. ^* S/ M 王银珍,周圣明,徐 军
, n2 D$ T% S: q5 o(中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800)
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& A. G- e# h3 g& S. P! @* L/ h2 A6 i& G+ S& M& @
【摘要】介绍了蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺,概述了化学机械抛光原理和设备,讨论分析了影响蓝宝石衬底化学机械抛光的因素,阐述了CMP 的主要发展趋势:能定量确定最佳CMP 工艺,系统地研究CMP 工艺过程参数,建立完善的CMP 理论模型,满足不同的工艺要求和应用领域,有效降低成本,提高产量。
3 P8 m5 I. y2 J! g) Z3 d【关键词】蓝宝石;衬底;化学机械抛光3 u: J6 H9 e( v, i! D
【来源】《人工晶体学报》2004 年6 月 |
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发表于 2008-1-17 19:39:18
