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蓝宝石衬底的化学机械抛光技术的研究
]3 i! K, e: P 王银珍,周圣明,徐 军- C) n* q% _+ _* y( {0 _. H$ A
(中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800)
, j, M7 L# R' ?: ?# f5 i0 {3 R" V& |- @4 m. G* m+ o0 @2 w! A2 O
& H& q* {$ O2 V& R; ]2 L$ T8 y* ?【摘要】介绍了蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺,概述了化学机械抛光原理和设备,讨论分析了影响蓝宝石衬底化学机械抛光的因素,阐述了CMP 的主要发展趋势:能定量确定最佳CMP 工艺,系统地研究CMP 工艺过程参数,建立完善的CMP 理论模型,满足不同的工艺要求和应用领域,有效降低成本,提高产量。
) o; n# O3 _4 j" z【关键词】蓝宝石;衬底;化学机械抛光. [( }7 ?8 w# z% ]
【来源】《人工晶体学报》2004 年6 月 |
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发表于 2008-1-17 19:39:18
