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波长色散X射线荧光分析的新发展 " Q0 t% [* i8 H
岛津(香港)有限公司北京代表处 电话：010-85252365 邮编：100020 ! M/ X% r( V- z* {
- c/ O0 F0 m# o; }1 a: L2 C1 K
/ p/ N9 R' h1 P# V) z3 O 摘要：论述了波长色散X射线荧光分析装置的发展状况。除了继续发展其在高含量、常量和微量元素分析上高精度、高稳定性的固有特点之外，在进一步提高灵敏度，使分析范围扩展到痕量分析范围；开拓微区面分布的元素成像分析；进一步对传统分析困难的轻元素和中重金属元素的探讨，开发新的高级次谱线分析方法；适应新材料特别是纳米材料的分析要求，对薄膜分析的开拓等方面，已经有了长足的发展。本文介绍在商品化的分析装置方面的发展状况。同时本文引入对无标样分析的基本参数法（FP法）目前发展状况的介绍。
( L" t2 I% s4 C) z9 L A
, n" ?7 s) O; y* X% B5 M, Z 关键词：波长色散X射线荧光分析，微区面分布的元素成像分析，高级次谱线分析方法，薄膜分析，无标样分析的基本参数法。* B$ a4 A$ T. v1 {' R0 D5 q, W S
" b, m! B7 I, W[ 本帖最后由 清风明月008 于 2007-10-14 11:25 编辑 ] |
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发表于 2007-10-14 10:03:07
