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[新技术] 用CVD法在陶瓷颗粒表面获得TiN涂层与应用

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发表于 2016-6-1 14:07:39 | 显示全部楼层 |阅读模式 来自: 中国黑龙江哈尔滨

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用CVD法在陶瓷颗粒表面获得TiN涂层与应用
0 P7 b- R* |5 J9 Y6 b) k王恩泽郑燕青邢建东鲍崇高
9 M; w& z2 p& T. [6 B(西安交通大学机械工程学院.西安710049)
" {( C3 \- H8 ]7 S" O摘要研制了适合陶瓷颗粒表而涂层处理的化学气相沉积装置,并探索了在氧化铝颗粒表而获得T iN涂层的工艺;所获得的T iN涂层能提高耐热钢在氧化铝颗粒间的铸渗深度,并使颗粒得到基体的牢固支撑氧化铝颗粒体积分数在23% ^ 57%可调
- D  ^' ]; a% x! o- _3 o2 P关键词化学气相沉积,T iN涂层,氧化铝颗粒,耐热钢基体,复合材料, |% C- u  X' {& C; F6 D2 X/ f
中图分类号TB331, TQ174.758
/ S4 |3 E1 f, }' g8 l; W
7 e& D+ S! V4 k! h! r! s

用CVD法在陶瓷颗粒表面获得TiN涂层与应用.rar

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