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发表于 2013-12-12 08:18:57
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来自： 中国黑龙江哈尔滨
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电子助进化学气相沉积金刚石中发射光谱的空间分布! k/ y& U: O* V! ~- A
董丽芳，王志军，尚勇, z% |! u: m, u5 N
河北大学物理科学与技术学院，河北保定。710028 w" p2 F; l! I% k3 r& y; `
摘 要 采用蒙特卡罗方法，对以CH4/H :为源料气体的电子助进化学气相沉积(EACVD)金刚石中的氢原子(Ha,H Q,H ,.),碳原子C(2p3s- 2p2,A = 165.7 二)以及CH( A2'}, -} 尸Il,a=420^-440n m)的发射过程进行了模拟，研究了不同CH4浓度下各发射谱线的空间分布。结果表明，不同CH;浓度下各发射谱线在反应空间的大部分区域内均随距灯丝距离的增大而增大，而当到达基片表面附近时有所减弱。随着CH、浓度的增加，H谱线强度减弱，CH与C谱线强度增强。
. P1 S" k/ g/ c7 x; x; Q+ @% g! H关键词电子助进化学气相沉积;金刚石空间分布;发射光谱
$ K# H% c: u9 f3 j中图分类号:0539 文献标识码:A 文章 编号:1000-0593(2007)01-0015-03 |
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