离子渗碳设备

eintel

离子渗碳处理温度较高，单纯采用直流辉光放电加热工件所需电流较大，处理过程中转化为弧光放电面无法正常工作。目前较多采用辅助加热的炉型。这种离子渗碳设备具有直流辉光放电和电阻辅助加热两套电源，因而价格较贵，工件升温和保温的热能主要由电阻加热腾腾提供，面直流电源提供离子渗碳过程中形成等离子体的能量。可分别调整的两套电源使用艺参数可在很大范围内调整，设备的前部为淬火室，后部为渗碳室，渗碳结束的工件可直接在真空条件下进行淬火，保证了工件的表面质量。