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发表于 2011-11-14 16:03:18
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来自： 中国黑龙江哈尔滨
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衣晓红，樊占国，张景垒，李凤华
7 P& x1 d3 P9 i(东北大学。辽宁沈阳ll0004)
! Q, @) c6 e! o摘要：采用固体粉末渗硼法对TC4钛合金基体表面进行渗硼试验。通过扫描电镜(SEM)、能谱(EDS)与X射线衍射* H. Q% J% f8 ^
(xRD)研究TC4钛合金渗硼后的物相组成和组织形貌，讨论渗硼过程中元素的扩散行为。结果表明：在lOOO，1050和/ Q! \! `7 L$ K- v5 H. s
lloo℃分别保温5，20 h后，渗层由外表层的TiB2和内表层的TiB晶须组成，渗层厚度范围为0．8～15岬。XRD分析$ ~: C+ j+ q( w6 O4 ]. |6 T
表明：TC4钛合金渗硼后形成TiB2与TiB双相硼钛化合物层，随着温度的升高，TiB2与TiB的峰位增多；EDS分析得
" r w( F$ C2 |0 d3 d, h) ? z1 z& l出表层B原子被TC4钛合金吸附后与基体的Ti化合导致过渡区域内的Ti含量减少，同时Al和v元素开始向基体扩散
! o+ c% o2 H& h% U+ H$ C并在近界面处富集。渗层的显微硬度呈梯度分布，TiB2到TiB晶须维氏硬度值的变化范围为22 000～11 000 MPa，过渡
3 M/ n1 ^4 m- I& l区的硬度值要高于基体的硬度值。
! i) c" u1 p. O. [5 e4 d, C关键词：固体渗硼；TC4钛合金；显微硬度；组成；硼钛化合物： |
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