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一罐内介质成份如下: H2O; NH3-N 2500-7500mg/L; SS 600mg/L; Cl- 5000mg/L; SO42- 5000mg/L; Na+ 6000mg/L; 氧化铝 500mg/L; 氧化硅 200mg/L。 介质温度 25℃。PH 值 6-9。 $ W P" `" _+ P9 d( H9 q' [" u
请问:, Q% v$ W5 B! E
溶液中氯离子、硫酸根离子的腐蚀机理与溶液中有同等含量的盐酸、硫酸腐蚀机理有无差异?差异在哪?
( n, d# t3 Y s6 \溶液中氯离子、硫酸根离子的腐蚀性与溶液中有同等含量的盐酸、硫酸腐蚀性有无差异?若有差异,如何进行定量或定性的分析?2 d, H, h- g* q+ t X) o8 v/ e9 \
根据溶液中氯离子、硫酸根离子的不同含量,罐内相关设施又如何选材?如 Cl- 3000mg/L; SO42- 3000mg/L;又如 Cl- 2000mg/L; SO42- 2000mg/L; * o6 R) L5 K3 i! C+ t1 V
请高手指点。 |
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