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蓝宝石衬底的化学机械抛光技术的研究
/ a' s6 t9 I/ R" J. o3 I* N 王银珍,周圣明,徐 军2 _$ V& j9 _+ X- [, Z# p6 f8 C
(中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800) R" U0 d/ |! _' K9 |
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( N( F! t$ V6 K6 w: M
【摘要】介绍了蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺,概述了化学机械抛光原理和设备,讨论分析了影响蓝宝石衬底化学机械抛光的因素,阐述了CMP 的主要发展趋势:能定量确定最佳CMP 工艺,系统地研究CMP 工艺过程参数,建立完善的CMP 理论模型,满足不同的工艺要求和应用领域,有效降低成本,提高产量。6 c- ]6 C7 p! A3 O0 T
【关键词】蓝宝石;衬底;化学机械抛光
0 O; {9 {% ~$ A# k【来源】《人工晶体学报》2004 年6 月 |
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发表于 2008-1-17 19:39:18
